[发明专利]一种输出均匀偏振光的微型激光器及其制备方法

权利要求书

1.一种输出均匀偏振光的微型激光器，包括P面电极（2）、P面分布布拉格反射镜（5）、N面分布布拉格反射镜（9）、衬底层（11）和N面电极（12），其特征在于：所述P面分布布拉格反射镜（4）表面制作有亚波长的金属光栅（1），金属光栅（1）与P面电极相连，金属光栅（1）的周期小于垂直腔面发射激光器的波长；所述衬底层（11）表面为球面；衬底层（11）朝向N面电极（12）的一侧刻蚀有DOE层（13）；

所述金属光栅（1）的材料为Au。

2.一种输出均匀偏振光的微型激光器的制备方法，其特征在于：依次包括以下步骤：

步骤一、半导体激光器芯片的生长：

步骤二、台面制造：

步骤三、氧化限制层的制作：

步骤四、钝化层制作：

步骤五、金属光栅制作：

步骤501、在P面分布布拉格反射镜（5）表面蒸镀一层Au膜，所述Au膜的厚度为光栅的厚度；

步骤502、对所述Au膜进行双光束曝光，然后进行刻蚀，刻蚀出光栅条；

步骤六、P面电极制作：

步骤601、利用光刻工艺将台面的光栅进行保护，台面金属光栅上涂抹的光刻胶厚度大于1μm，尺寸略小于台面尺寸；

步骤602、在台面上蒸镀Ti-Pt-Au合金层作为P面电极（2），合金层厚度为0.3~0.5μm；

步骤603、采用lift-off工艺将台面光栅上的Ti-Pt-Au合金层进行去除，漏出金属光栅层

步骤七、衬底曲率表面制作

利用选择湿法腐蚀或者干法刻蚀工艺在衬底层刻蚀出一定曲率的表面

步骤八、DOE制作

根据所得DOE的相位分布，进行量化后，利用离子刻蚀所述衬底层（11）表面刻蚀出DOE层（13）；

步骤九、N面电极的制作：

步骤801、采用真空镀膜设备在衬底层（11）中的底部蒸镀Ge-Au-Ni合金层，通过lift-off工艺，将DOE层（13）表面的电极层进行去除；其中，所述Ge-Au-Ni结构的厚度为0.5μm～2μm；

步骤 802、采用退化处理设备对所述Ge-Au-Ni结构进行退火处理，形成N面电极（12）。