[发明专利]一种利用甲烷氧化菌处理掘进工作面局部瓦斯积聚的方法有效
| 申请号： | 201811442539.7 | 申请日： | 2018-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN109458212B | 公开（公告）日： | 2020-06-09 |
| 发明（设计）人： | 杨小彬;裴艳宇;刘吟苍;冷浩然 | 申请（专利权）人： | 中国矿业大学（北京） |
| 主分类号： | E21F7/00 | 分类号： | E21F7/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100083 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 利用 甲烷 氧化 处理 掘进 工作面 局部 瓦斯 积聚 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种利用甲烷氧化菌处理掘进工作面局部瓦斯积聚的方法，其特征在于包括以下步骤：S101：在掘进工作面上方钻孔；S102：制作菌液承载架；S103：将甲烷氧化菌菌液和黄泥混合成粘稠状，并通入空气，形成三相状态；S104：将形成三相状态的混合物均匀涂抹于掘进工作面上方的冒落区和钻好的瓦斯积聚孔的内部孔壁和孔的底面上，使混合物稳定依附于煤壁上；S105：用不锈钢钉固定承载固定架，并将菌液槽放在承载固定架上，并在槽中加入甲烷氧化菌菌液；S106：从涂抹混合物完成开始计时，96小时后，更换菌液槽中的菌液和冒落空洞内及瓦斯积聚孔内菌液和黄泥的混合物。
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