[发明专利]用于硅氧烷污染物去除的材料、方法及设备在审
| 申请号： | 201811444539.0 | 申请日： | 2013-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN109395531A | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | B·N·霍昂;G·魏那克;K·维斯瓦纳森;A·J·达拉斯 | 申请（专利权）人： | 唐纳森公司 |
| 主分类号： | B01D53/04 | 分类号： | B01D53/04;B01J20/22;B01J20/28;B01J20/30 |
| 代理公司： | 上海一平知识产权代理有限公司 31266 | 代理人： | 马思敏;徐迅 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 吸附性材料 硅氧烷 吸附剂 过滤元件 污染物去除 气体通过 气体流 酸浸渍 酸洗涤 去除 酸洗 污染物 | ||
1.一种用于过滤含有硅氧烷和氨气的气体的方法，所述方法包括：
提供过滤元件，所述的过滤元件包括：
第一层，所述的第一层包括第一吸附材料，所述第一吸附材料包含酸性气体去除剂，其中所述酸性气体去除剂选自下组：碘化钾、碳酸钾、氢氧化钠，或其组合；
第二层，所述的第二层包括第二吸附材料，所述的第二吸附材料包括浸渍有磷酸的活性炭；和
第三层，所述的第三层包含第三吸附材料，所述第三吸附材料包括已用至少5％硝酸的水溶液酸洗过的活性炭；和
使气体顺序通过过滤器元件的层以减少气体中的硅氧烷和氨水平。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的过滤器元件还包括第四层，所述的第四层包括第四吸附材料，所述第四吸附材料包括浸渍有磷酸的活性炭，其中所述第四层配置成使得所述气体顺序地通过第一层，第二层，第三层和第四层。
3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，通过所述过滤器元件的气体随后用于半导体的制造。
4.前述任一权利要求中所述的方法，其特征在于，所述的磷酸是15％磷酸。
5.一种用于过滤含有硅氧烷和氨的气体的过滤元件，所述过滤元件包括：
第一层，所述的第一层包括第一吸附材料，所述第一吸附材料包括酸性气体去除剂，其中所述酸性气体去除剂选自下组：碘化钾、碳酸钾、氢氧化钠，或其组合；
第二层，所述的第二层包括第二吸附材料，所述第二吸附材料包括浸渍有磷酸的活性炭；和
第三层，所述的第三层包括第三吸附材料，所述第三吸附材料包括酸洗的活性炭。
6.根据权利要求5所述的过滤器元件，其特征在于，所述过滤器元件还包括第四层，所述第四层包括第四吸附材料，所述第四吸附材料包括浸渍有磷酸的活性炭。
7.一种用于过滤包含硅氧烷和氨的气体的过滤系统，所述过滤系统包括权利要求6所述的过滤元件，其中所述层被配置成使得所述气体顺序地通过所述第一层，所述第二层，所述第三层和所述第四层。
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