[发明专利]真空镀膜设备

权利要求书

1.一种真空镀膜设备，其特征在于，包括第一真空腔室排、第二真空腔室排、大气回转装置、真空回转装置、第一驱动机构及第二驱动机构，所述第一真空腔室排、所述真空回转装置、所述第二真空腔室排及所述大气回转装置顺次排布以形成循环，所述第一真空腔室排及所述第二真空腔室排均位于所述大气回转装置与所述真空回转装置之间，由所述大气回转装置至所述真空回转装置的方向为第一方向，由所述真空回转装置至所述大气回转装置的方向为第二方向；

所述第一真空腔室排包括多个沿所述第一方向顺次排布的第一前缓冲真空室，所述第二真空腔室排包括沿所述第二方向顺次排布的真空镀膜室及后缓冲真空室，所述后缓冲真空室设有多个，且沿所述第二方向顺次排布，各所述第一前缓冲真空室在所述第一方向上的延伸长度之和大于各所述后缓冲真空室在所述第二方向上的延伸长度之和；

所述第一驱动机构用于驱动承载基片的基片车沿所述第一方向穿过所述第一真空腔室排，所述第二驱动机构用于驱动所述基片车沿所述第二方向穿过所述第二真空腔室排；

所述真空回转装置用于将所述基片车在真空条件下由所述第一真空腔室排转动至所述第二真空腔室排，所述大气回转装置用于将所述基片车由所述第二真空腔室排转动至所述第一真空腔室排。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，各所述第一前缓冲真空室在所述第一方向上的延伸长度之和等于所述第一真空腔室排在所述第一方向上的延伸长度。

3.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第一真空腔室排在所述第一方向上的延伸长度等于所述第二真空腔室排在所述第二方向上的延伸长度。

4.根据权利要求3所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第二真空腔室排与所述第一真空腔室排并排且对齐设置。

5.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第一方向及所述第二方向均为线性方向。

6.根据利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，多个所述第一前缓冲真空室分别为沿所述第一方向顺次排布的第一低真空室及第一高真空室，所述第一高真空室内的真空度高于所述第一低真空室内的真空度；

所述第二真空腔室排包括沿所述第二方向顺次排布的第二高真空室及第二低真空室，所述第二高真空室内的真空度高于所述第二低真空室内的真空度。

7.根据权利要求6所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第一低真空室为进口真空室，所述第一高真空室包括沿所述第一方向排布且真空度逐渐增高的进口真空锁定室及进口真空过渡室；

第二高真空室包括真空镀膜室及沿第二方向排布且真空度逐渐降低的出口真空过渡室及出口真空锁定室，所述第二低真空室为出口真空室。

8.根据权利要求7所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述进口真空过渡室包括沿所述第一方向顺次排布的第一真空过渡室及第二真空过渡室，所述进口真空室与所述出口真空室并排且对齐设置，所述进口真空锁定室与所述出口真空锁定室并排且对齐设置，所述第一真空过渡室与所述出口真空过渡室并排且对齐设置，所述第二真空过渡室与所述真空镀膜室并排且对齐设置。

9.根据权利要求8所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述真空镀膜设备还包括第一箱体、第二箱体、第三箱体、第四箱体、第一隔板、第二隔板、第三隔板及第四隔板，所述第一箱体、所述第二箱体、所述第三箱体及所述第四箱体沿所述第一方向顺次排布；

所述第一隔板将所述第一箱体分隔成所述进口真空室与所述出口真空室；

所述第二隔板将所述第二箱体分隔成所述进口真空锁定室与所述出口真空锁定室；

所述第三隔板将所述第三箱体分隔成所述第一真空过渡室与所述出口真空过渡室；

所述第四隔板将所述第四箱体分隔成所述第二真空过渡室与所述真空镀膜室。