[发明专利]基座调节装置及腔室

说明书

本发明提供的基座调节装置及腔室，基座调节装置包括：第一调节件、第二调节件以及推拉组件；推拉组件分别连接第一调节件和第二调节件，其中，第一调节件用于固定基座，第一调节件与第二调节件连接并且能在推拉组件的驱动下相对第二调节件沿第一水平方向移动；其中，第二调节件与腔室底壁连接并且能在推拉组件的驱动下相对腔室底壁沿第二水平方向移动。通过推拉组件以推拉的方式分别驱动第一调节件和第二调节件移动，仅需要调节两次即可完成基座的水平位置的调整，整体调节性高，操作简单。

技术领域

本发明属于半导体制造技术领域，具体涉及一种基座调节装置及腔室。

背景技术

原子层沉积技术是一种基于真空环境下的薄膜沉积方法，其最大特点是膜层厚度稳定、生长层数可控。图1为一种常见的基座及其提升结构的结构示意图。如图1所示，腔室内设置有工艺套件8，工艺套件8在工艺过程中保持静止状态，基座9随工艺需求在提升机构7的驱动下做升降运动，运动过程中要求基座9与工艺套件8中心保持对中。其中，工艺套件8是一组零件的装配体，多件配合装配于腔室内部以构成气道，整个装配体存在一定的加工误差和装配误差，基座9与提升机构7也是一组零件的装配体，同样存在加工误差和装配误差，单纯靠零件尺寸配合获得对中精度比较困难，对加工精度要求也比较高，因此，需要采用可调节方式实现对中。另外，基座9本身也要求具有一定的水平度，以确保与机械手衔接及与工艺套件相对平行，由于基座9具有一定的高度，其底部的微小角度会在顶端放大为明显角度的倾斜，因此，也需要进行水平度的调整。

图2a为现有技术提供的一种基座调节机构的主视示意图；图2b为图2a中I区域的局部示意图；图2c为图2a中的俯视示意图。如图2a-图2c所示，在框架1上具有三个调整结构2，基座通过三个调整结构2实现与腔室的连接固定，在框架1上开设有左右方向、前后方向的长孔，调整结构2包括偏心导向柱6，通过旋转偏心导向柱6带动调整结构2沿左右方向或前后方向移动，从而实现对中调节。调平功能由调平螺钉3实现，三个调平螺钉3确定一个共同平面，通过调节调整结构2中的球头结构9来调节调平螺钉3的高度，从而实现水平度的调整。

在上述结构中，存在如下问题：

其一，由于前后或左右对中调节时需要三个调整结构2分别进行调节，整体一致性差，操作繁琐，还会发生步调不一致导致较劲情况；

其二，偏心导向柱6不够灵活，偏心移动旋转时往往产生阻力，使对中过程受到阻碍。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种基座调节装置及腔室，能进行整体调整，简化操作。

为解决上述问题，本发明提供了一种基座调节装置，用于调节基座相对于腔室的位置，所述基座调节装置包括：第一调节件、第二调节件以及推拉组件；

所述推拉组件分别连接所述第一调节件和所述第二调节件；

所述第一调节件用于固定所述基座，所述第一调节件与所述第二调节件连接并且能在所述推拉组件的驱动下相对所述第二调节件沿第一水平方向移动；

所述第二调节件与腔室底壁连接并且能在所述推拉组件的驱动下相对所述腔室底壁沿第二水平方向移动；

其中，所述第一水平方向与所述第二水平方向相互垂直。

进一步地，所述推拉组件包括固定块和调节螺钉；

其中，所述推拉组件设有两组，所述固定块分别固定在所述第二调节件和所述腔室底壁；

所述调节螺钉分别沿第一水平方向和第二水平方向设置在对应的所述固定块中，相应的所述调节螺钉的一端分别与所述第一调节件和所述第二调节件螺纹连接；所述调节螺钉与所述固定块之间的连接结构配置为：所述调节螺钉相对自身轴线转动的同时在该轴线方向上固定。

进一步地，所述连接结构包括设置在所述固定块的卡合部以及设置在所述调节螺钉的凸缘；