[发明专利]场效应管及其制备方法有效
申请号: | 201811445475.6 | 申请日: | 2018-11-29 |
公开(公告)号: | CN109860287B | 公开(公告)日: | 2021-03-26 |
发明(设计)人: | 郑小平;叶振强;孙振源;欧湛;李志杰;刘佳明;李佳 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | H01L29/772 | 分类号: | H01L29/772;H01L29/10;H01L21/335 |
代理公司: | 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 | 代理人: | 孙岩 |
地址: | 100084*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 场效应 及其 制备 方法 | ||
1.一种场效应管,其特征在于,包括:
衬底(100),包括六方氮化硼层(110),用于提供支撑;
石墨烯层(200),包括相对的第一表面(210)和第二表面(220),所述第一表面(210)与所述六方氮化硼层(110)接触,所述第二表面(220)包括氢化区(222);以及
栅介质层(300),覆盖于所述氢化区(222)。
2.根据权利要求1所述的场效应管,其特征在于,还包括源极(400)和漏极(500),相对且间隔设置于所述第二表面(220),且所述栅介质层(300)设置于所述源极(400)和所述漏极(500)之间。
3.根据权利要求2所述的场效应管,其特征在于,所述源极(400)和所述漏极(500)均包括叠加的Ti层(700)和电极主体层(800),且所述Ti层(700)覆盖于所述石墨烯层(200)表面。
4.根据权利要求1所述的场效应管,其特征在于,所述衬底(100)还包括基底(120),所述六方氮化硼层(110)设置于所述基底(120)的表面。
5.根据权利要求1所述的场效应管,其特征在于,还包括栅极(600),设置于所述栅介质层(300)远离所述氢化区(222)的表面。
6.一种场效应管的制备方法,其特征在于,包括:
提供一基底(120),在所述基底(120)表面形成六方氮化硼层(110);
在所述六方氮化硼层(110)表面形成石墨烯层(200);
对所述石墨烯层(200)有选择的进行氢化,在所述石墨烯层(200)表面形成氢化区(222);
在所述氢化区(222)形成栅介质层(300)。
7.根据权利要求6所述的场效应管的制备方法,其特征在于,所述在所述基底(120)表面形成六方氮化硼层(110),包括:
制作六方氮化硼混合溶液;
对所述六方氮化硼混合溶液进行超声处理,得到分离溶液;
静置所述分离溶液,得到分层溶液;
提取所述分层溶液中的上层清液,并进行离心处理,得到六方氮化硼沉淀物;
将所述六方氮化硼沉淀物转移到所述基底(120)表面,形成所述六方氮化硼层(110)。
8.根据权利要求6所述的场效应管的制备方法,其特征在于,所述对所述石墨烯层(200)有选择的进行氢化,在所述石墨烯层(200)表面形成氢化区(222),包括:
在所述石墨烯层(200)选择两个间隔的区域分别形成源极(400)和漏极(500);
对所述石墨烯层(200)表面所述源极(400)和所述漏极(500)之间的区域进行氢化,形成所述氢化区(222)。
9.根据权利要求8所述的场效应管的制备方法,其特征在于,所述在所述石墨烯层(200)选择两个间隔的区域分别形成源极(400)和漏极(500),包括:
在所述选择的区域形成一层Ti层(700);
在所述Ti层(700)表面形成一层电极主体层(800),形成所述源极(400)和所述漏极(500)。
10.根据权利要求6所述的场效应管的制备方法,其特征在于,所述在所述氢化区(222)形成栅介质层(300)后,还包括:
在所述栅介质层(300)表面制作栅极(600)。
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