[发明专利]一种透明导电膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201811451109.1 | 申请日： | 2018-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN109461518A | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 张志清;刘荣隆 | 申请（专利权）人： | 明达光电（厦门）有限公司 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;H01B13/00;G06F3/041;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/18;C23C14/20;C23C14/35 |
| 代理公司： | 厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 | 代理人： | 罗恒兰 |
| 地址： | 361000 福建省厦门*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 透明导电膜 功能层 金属导电层 制备 大屏幕触摸屏 厚度设置 透明基层 透明基片 依次层叠 保护层 介质层 面电阻 种子层 应用 | ||
1.一种透明导电膜，其特征在于：包括透明基片以及依次层叠设置在透明基层上的介质层、种子层、功能层和保护层，所述功能层为金属导电层，其厚度为2-15nm。
2.根据权利要求1所述的一种透明导电膜，其特征在于：所述功能层由银、铜、铝中的一种或其合金构成。
3.根据权利要求1所述的一种透明导电膜，其特征在于：所述透明基片为透明玻璃、PET塑料薄膜或者有机玻璃。
4.根据权利要求1所述的一种透明导电膜，其特征在于：所述介质层厚度2-45nm，该介质层由氧化钛、氧化锌锡、氧化锡、氧化铌、氧化铝、氧化锌铝、氧化硅、氧化锌、氧化铋、氮化硅中的一种或几种构成。
5.根据权利要求1所述的一种透明导电膜，其特征在于：所述种子层厚度为2-40nm，该种子层由氧化锌铝、氧化锌、氧化锌锡、氧化锡中的一种或几种构成。
6.根据权利要求1所述的一种透明导电膜，其特征在于：所述保护层厚度为5-50nm，其由氧化锌铝、氧化锌、氧化锌锡、氧化锡中的一种或几种构成。
7.一种制备如权利要求1至6任一所述的透明导电膜的方法，其特征在于：所述制备方法包括以下步骤：
步骤1、将透明基片经过清洗烘干后，送入真空磁性溅射镀膜线腔室内进行真空镀膜，该镀膜线腔室内的压力保持在5.0*10-6mbr以上，通入工艺气体后，工作点气氛压力在2.5*10-3mbr；
步骤2、在上述镀膜线腔室的压力条件下，在透明基片上溅射沉积形成一厚度为2-45nm的介质层；
步骤3、在介质层溅射完成之后，在上述镀膜线腔室的压力条件下，在介质层上溅射沉积形成一厚度为2-40nm的种子层；
步骤4、在种子层溅射完成之后，在上述镀膜线腔室的压力条件下，在种子层上溅射沉积形成一厚度为2-15nm的功能层；
步骤5、在功能层溅射完成之后，在上述镀膜线腔室的压力条件下，在功能层上溅射沉积形成一厚度为5-50nm的保护层，即得到透明导电膜。
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