[发明专利]玻璃板材及其制备方法、电子设备

权利要求书

1.一种玻璃板材的制备方法，其特征在于，包括：

提供玻璃粗品；

在所述玻璃粗品的一侧形成光阻层；

刻蚀所述光阻层以形成渐变网点层；

基于所述渐变网点层，对所述玻璃粗品进行刻蚀处理，以在所述玻璃粗品上形成渐变网点结构，并去除所述渐变网点层以得到所述玻璃板材。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述渐变网点层包括多个等面积的网点，所述渐变网点层不同区域处所述网点的分布密度不完全相同。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述网点的分布密度在所述玻璃粗品的表面上由中心向边缘逐渐增大或减小；

或者，所述网点的分布密度从所述玻璃粗品的表面的一侧向另一侧递增或递减。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述渐变网点层包括多个网点，多个所述网点的网点面积不完全相同。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，沿着由所述玻璃粗品的中心向边缘的方向上，多个所述网点的网点面积逐渐增大或减小；

或者，沿着由所述玻璃粗品的表面的一侧向另一侧的方向上，多个所述网点的网点面积递增或递减。

6.根据权利要求2～5任一项所述的方法，其特征在于，所述网点的网点面积为1.25×10^-3～0.01平方毫米。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在形成所述光阻层之后，形成所述渐变网点层之前，进一步包括：

在所述玻璃粗品背离所述光阻层的一侧，形成保护层。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，刻蚀所述光阻层以形成所述渐变网点层包括：

基于光罩对所述光阻层进行曝光处理；

对经过所述曝光处理的所述光阻层进行显影处理，以便形成所述渐变网点层。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，对所述玻璃粗品进行所述刻蚀处理的刻蚀深度为1～2微米。

10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于氢氟酸溶液对所述玻璃粗品进行所述刻蚀处理，所述氢氟酸溶液的浓度为0.3～0.7％。

11.一种玻璃板材，其特征在于，所述玻璃板材的一侧表面上具有渐变网点结构，所述渐变网点结构由多个凸起构成，多个所述凸起的凸起面积不完全相同；

或者，多个所述凸起的凸起面积相同，所述玻璃板材不同位置处相邻的两个所述凸起之间的间距不完全相同。

12.根据权利要求11所述的玻璃板材，其特征在于，沿着由所述玻璃板材的中心向边缘的方向上，多个所述凸起的凸起面积逐渐增大或减小；

或者，沿着由所述玻璃板材的表面的一侧向另一侧的方向上，多个所述凸起的凸起面积递增或递减。

13.根据权利要求11所述的玻璃板材，其特征在于，所述玻璃板材不同位置处相邻的两个所述凸起之间的间距，在所述玻璃板材的表面上由中心向边缘逐渐增大或减小；

或者，所述玻璃板材不同位置处相邻的两个所述凸起之间的间距，从所述玻璃板材的表面的一侧向另一侧递增或递减。

14.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求11～13任一项所述的玻璃板材。