[发明专利]一种空间周期连续可调的激光瞬态光栅系统有效

专利信息
申请号: 201811457616.6 申请日: 2018-11-30
公开(公告)号: CN109459415B 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 母健;宋云飞;杨延强 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院流体物理研究所
主分类号: G01N21/47 分类号: G01N21/47;G01N21/01
代理公司: 四川力久律师事务所 51221 代理人: 刘童笛
地址: 621999*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 空间 周期 连续 可调 激光 瞬态 光栅 系统
【权利要求书】:

1.一种空间周期连续可调的激光瞬态光栅系统,其特征在于,应用于声学测量中,包括:激发激光束(1),用于激发瞬态光栅;掩膜光栅(3),用于对所述激发激光束(1)进行衍射分光;探测激光束(2),所述探测激光束(2)和所述激发激光束(1)位于所述掩膜光栅(3)的同一侧,且作用于所述掩膜光栅(3)的同一位置;滤光装置,与所述激发激光束(1)分别位于所述掩膜光栅(3)相对的两侧,所述滤光装置包括若干个吸收挡板(43),所述吸收挡板(43)用于吸收遮挡所述激发激光束(1)的零级衍射光和高阶衍射光,同时吸收遮挡所述探测激光束(2)的零级衍射光和高阶衍射光,留出所述激发激光束(1)的±1级衍射光,形成激发光束对,同时留出所述探测激光束(2)的±1级衍射光,将所述探测激光束(2)的±1级衍射光分为探测光束(21)和参考光束(22);连续变焦成像装置(5),与所述掩膜光栅(3)分别位于所述滤光装置相对的两侧,所述连续变焦成像装置(5)包括至少三个依次排列设置的第一透镜(51),相邻两个所述第一透镜(51)的间距可调,所述激发光束对射入所述连续变焦成像装置(5),并依次经过所有所述第一透镜(51)折射后出射,最终在样品(7)上汇聚、交叉干涉形成瞬态光栅,还包括4f装置(4),所述4f装置(4)位于所述掩膜光栅(3)和所述连续变焦成像装置(5)之间,所述4f装置(4)包括两个相对设置的第二透镜(44),所述滤光装置位于两个所述第二透镜(44)之间,所述4f装置(4)用于接收和折射所述激发激光束(1)的±1级衍射光,通过所述4f装置(4)的共焦成像,使经过所述掩膜光栅(3)衍射分光过后的光束在成像位置处再重合,形成所述掩膜光栅(3)的像,所述连续变焦成像装置(5)的前光阑与靠近所述连续变焦成像装置(5)的所述第二透镜(44)的后焦面保持固定距离;所述掩膜光栅(3)为变频掩膜光栅,所述变频掩膜光栅上包括若干个不同频率的光栅,所述激发激光束(1)和探测激光束(2)每次照射到同一个光栅上,通过移动所述掩膜光栅(3)的位置,使所述激发激光束(1)和探测激光束(2)照射到不同频率的光栅上,从而控制衍射分光角度;还包括探测装置(6),所述探测装置(6)和所述连续变焦成像装置(5)位于所述样品(7)相对的两侧,所述探测激光束(2)经所述瞬态光栅产生衍射,所述探测装置(6)用于接收所述探测激光束(2)的衍射光。

2.根据权利要求1所述的空间周期连续可调的激光瞬态光栅系统,其特征在于,所述激发激光束(1)为短脉冲激光或者超短脉冲激光,所述探测激光束(2)为窄线宽连续激光或同步长脉冲激光。

3.根据权利要求1所述的空间周期连续可调的激光瞬态光栅系统,其特征在于,还包括衰减片(42),所述衰减片(42)位于两个所述第二透镜(44)之间,并位于所述参考光束(22)的光路上。

4.根据权利要求3所述的空间周期连续可调的激光瞬态光栅系统,其特征在于,还包括玻璃片(41),所述玻璃片(41)位于两个所述第二透镜(44)之间,所述玻璃片(41)与所述衰减片(42)等厚,所述玻璃片(41)位于所述探测光束(21)的光路上。

5.根据权利要求1-4任一项所述的空间周期连续可调的激光瞬态光栅系统,其特征在于,所述连续变焦成像装置(5)还包括壳体(52),所有所述第一透镜(51)设于所述壳体(52)内,所述壳体(52)包括相对设置的进光口和出光口,所述激发光束对由所述进光口射入,经所有所述第一透镜(51)传递,由所述出光口射出,并在样品(7)上汇聚、交叉干涉形成瞬态光栅。

6.根据权利要求5所述的空间周期连续可调的激光瞬态光栅系统,其特征在于,所述连续变焦成像装置(5)还包括导轨,所述导轨设于所述壳体(52)内,所有所述第一透镜(51)滑动设于所述导轨上,所述壳体(52)外表面上设有若干个调节部件,所述壳体(52)内设有若干个传动部件,每个所述传动部件对应连接一个所述第一透镜(51),每个所述调节部件用于调节至少一个所述传动部件的联动。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院流体物理研究所,未经中国工程物理研究院流体物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811457616.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top