[发明专利]MOCVD装置

权利要求书

1.一种MOCVD装置，其特征在于，包括：

壳体(10)；

承载组件(20)，所述承载组件(20)设置在所述壳体(10)内，所述承载组件(20)包括支撑托盘(21)和承载单元(22)，所述承载单元(22)用于承载基片(100)，所述承载单元(22)为多个，所述多个承载单元(22)相间隔地分布在所述支撑托盘(21)上；

喷淋组件(30)，所述喷淋组件(30)设置在所述壳体(10)内并位于所述承载组件(20)的上方，所述喷淋组件(30)包括上支撑盖(31)和喷淋单元(32)，所述喷淋单元(32)用于喷淋混合反应气，所述喷淋单元(32)为多个，所述多个喷淋单元(32)相间隔地设置在所述上支撑盖(31)上并与所述多个承载单元(22)一一对应设置；各所述喷淋单元(32)向与其相对应的一个所述承载单元(22)喷射所述混合反应气，以使所述混合反应气在所述承载单元(22)承载的所述基片(100)上反应形成化合物薄膜。

2.根据权利要求1所述的MOCVD装置，其特征在于，所述喷淋组件(30)和所述承载组件(20)之间形成反应腔室(11)，所述MOCVD装置还包括多个导流筒(40)，所述多个导流筒(40)位于所述反应腔室(11)内，各所述导流筒(40)的两个筒口分别与一组相对应的所述喷淋单元(32)和所述承载单元(22)中的所述喷淋单元(32)和所述承载单元(22)相对设置，所述导流筒(40)用于将与其对应的所述喷淋单元(32)喷射出的所述混合反应气向与其对应的所述承载单元(22)导流。

3.根据权利要求2所述的MOCVD装置，其特征在于，所述导流筒(40)的第一端与所述上支撑盖(31)连接，且所述导流筒(40)的第一端的筒口罩设所述喷淋单元(32)的喷淋表面(321)，所述导流筒(40)的第二端延伸至与所述承载单元(22)相对的位置处，且所述导流筒(40)的第二端的筒口与所述支撑托盘(21)之间形成回流间隙(41)，所述承载单元(22)位于所述导流筒(40)的第二端的筒口罩设的范围内。

4.根据权利要求2所述的MOCVD装置，其特征在于，所述喷淋单元(32)的底面形成喷淋表面(321)，所述上支撑盖(31)的底面的位于所述多个导流筒(40)之间的部分为主排气表面(311)，所述主排气表面(311)上形成有多个排气孔口(313)。

5.根据权利要求2所述的MOCVD装置，其特征在于，所述MOCVD装置还包括多个内套筒(50)，各所述导流筒(40)内设置有一个所述内套筒(50)，且所述内套筒(50)的远离所述上支撑盖(31)的一端的筒口与所述支撑托盘(21)之间形成回流缝隙(42)，所述上支撑盖(31)的底面的位于所述多个导流筒(40)之间的部分为主排气表面(311)，所述喷淋单元(32)的底面上位于所述导流筒(40)和所述内套筒(50)之间的部分形成喷淋表面(321)，所述喷淋单元(32)的底面上位于所述内套筒(50)罩设范围内的部分形成辅助排气表面(312)，所述主排气表面(311)和所述辅助排气表面(312)均具有多个排气孔口(313)。

6.根据权利要求5所述的MOCVD装置，其特征在于，所述导流筒(40)和所述内套筒(50)均为矩形筒或圆筒，且所述内套筒(50)与所述导流筒(40)同轴设置，所述喷淋单元(32)的底面呈与所述导流筒(40)的截面形状相适配的矩形或圆形，所述承载单元(22)的承载面为与所述导流筒(40)的截面形状相适配的矩形或圆形。

7.根据权利要求4或5所述的MOCVD装置，其特征在于，所述多个喷淋单元(32)以矩形阵列或圆周阵列的形式分布在所述上支撑盖(31)上，所述多个承载单元(22)以与所述多个喷淋单元(32)的分布形式相同的阵列形式分布在所述支撑托盘(21)上。

8.根据权利要求4或5所述的MOCVD装置，其特征在于，所述上支撑盖(31)内形成排气通道(314)，所述上支撑盖(31)的上表面形成有排气孔(315)，所述排气孔口(313)通过所述排气通道(314)与所述排气孔(315)连通。