[发明专利]一种柔性卷绕镀膜设备用杂气清理隔离装置

说明书

本发明公开了一种柔性卷绕镀膜设备用杂气清理隔离装置，包括卷绕镀膜设备本体，所述卷绕镀膜设备本体的内部位于镀膜鼓的表面等角度设有六组磁控溅射腔室，且卷绕镀膜设备本体的内部位于每两组磁控溅射腔室之间均设有真空腔室，所述真空腔室与磁控溅射腔室之间设有溢出口，且溢出口内安装有单向阀，所述真空腔室的外侧安装有真空泵，且真空泵的进气端与真空腔室的抽气口连接固定，所述真空泵的出气端通过管道固定连接有气体净化装置。该装置结构设计简单合理，操作方便，有效的防止杂气溢出到其他腔室，保证卷绕镀膜设备使用时的真空度，同时便于对杂气进行处理，安全稳定，适用范围广，有利于推广和普及。

技术领域

本发明属于杂气清理技术领域，具体涉及一种柔性卷绕镀膜设备用杂气清理隔离装置。

背景技术

目前柔性透明导电薄膜沉积技术已经在触摸屏行业广泛推广，柔性透明导电膜通过卷绕镀膜设备镀制，但是在柔性卷绕镀膜设备中的溅射腔室在对柔性透明导电薄膜基材溅射的时候往往会有多余的工艺气体进入相邻的腔室，从而引起不同的工艺气体混合影响柔性透明导电薄膜镀制的质量，同时对于杂气进入其他溅射腔室也会影响卷绕镀膜设备内部的真空度，影响卷绕镀膜设备的产品稳定性，不利于广泛的推广和普及。

发明内容

本发明的目的在于提供一种柔性卷绕镀膜设备用杂气清理及隔离装置，结构设计简单合理，操作方便，有效的防止杂气溢出到其他腔室，同时便于对杂气进行处理，安全稳定，适用范围广，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种柔性卷绕镀膜设备用杂气清理隔离装置，包括卷绕镀膜设备本体，所述卷绕镀膜设备本体的内部位于镀膜鼓的表面等角度设有六组磁控溅射腔室，且卷绕镀膜设备本体的内部位于每两组磁控溅射腔室之间均设有真空腔室，所述真空腔室与磁控溅射腔室之间设有溢出口，且溢出口内安装有单向阀，所述真空腔室的外侧安装有真空泵，且真空泵的进气端与真空腔室的抽气口连接固定，所述真空泵的出气端通过管道固定连接有气体净化装置。

优选的，所述卷绕镀膜设备本体的两侧分别连接有内部设置辊筒的放卷室和收卷室，且卷绕镀膜设备本体的内部设有用于抽真空的泵体。

优选的，所述单向阀包括焊接在溢出口内且一端伸入真空腔室内的通气管，所述通气管伸入真空腔室的一端内部滑动连接有塞柱，且塞柱的一端伸出通气管一体式连接有挡板，所述挡板与通气管之间固定安装有回力弹簧，所述塞柱的端部设有与塞柱一侧连通的通孔，且通气管伸入真空腔室的一端表面设有与通孔相配合的气孔。

优选的，所述气体净化装置包括反应罐，且反应罐的顶部通过法兰固定安装有罐盖，所述罐盖的一侧穿插有底端伸入反应罐内部底端的连接管，且连接管的顶端与真空泵的出气端通过管道连接固定，所述反应罐的底部设有带阀门的出料管，且反应罐的内部底端位于出料管的外侧嵌装有电加热管，所述反应罐的一侧顶端焊接有带端盖的进料管，所述罐盖的顶部另一侧焊接有出气管，且罐盖的底部位于出气管的外侧安装有填充活性炭的滤袋。

优选的，所述反应罐的内部底端为开口向上的曲面弧型，且反应罐的表面设有带刻度的观察窗。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

1、通过在磁控溅射腔室之间设置真空腔室可以防止杂气进入不同的磁控溅射腔室内，同时真空腔室内的单向阀可以实现只可以使杂气进入真空腔室，而不能使杂气从真空腔室回流到磁控溅射腔室内；

2、利用真空泵可以把溢流到真空腔室内的杂气抽出真空腔室内，同时也能保证真空腔室内的真空度，而杂气送入气体净化装置内的反应罐中与溶液发生置换反应，有效的把可以再次使用或者比较稀有的物质分离出来，同时电加热管在需要的时候可以对溶液进行加热提高置换反应的效率，填充活性炭的滤袋有效的对置换后产生的气体进行过滤，减少环境污染。

附图说明

图1为本发明的结构示意图；