[发明专利]一种柔性有机发光显示装置及其制备方法

权利要求书

1.一种柔性有机发光显示装置，其特征在于，包括：

弯折区和平直区；

柔性基底；所述柔性基底设置于所述的弯折区和平直区；

缓冲层，所述缓冲层设置在所述柔性基底上；

绝缘层，所述绝缘层设置在所述缓冲层上；

聚合物平坦层，所述聚合物平坦层设置在所述绝缘层上；

阳极；以及

像素隔离层，所述像素隔离层与所述阳极相互交错设置于所述聚合物平坦层上；

像素隔离层，所述像素隔离层包括设置在弯折区的第一像素隔离层和设置在平直区的第二像素隔离层；

所述第一像素隔离层的厚度大于所述第二像素定义层的厚度。

2.根据权利要求1所述的柔性有机发光显示装置，其特征在于，所述第二像素隔离层的厚度范围为0.5-2μm。

3.根据权利要求1所述的柔性有机发光显示装置，其特征在于，所述第一像素隔离层的厚度范围为0.6-4μm。

4.根据权利要求1所述的柔性有机发光显示装置，其特征在于，所述绝缘层由第一绝缘层、第二绝缘层以及第三绝缘层组成，所述绝缘层中还设有栅极、源极和漏极。

5.根据权利要求1所述的柔性有机发光显示装置，其特征在于，还包括：

有机层，所述有机层设置于所述像素隔离层和所述阳极上；

封装层，所述封装层设置在所述有机层上；以及

结构层，所述结构层设置于所述封装层上。

6.根据权利要求5所述的柔性有机发光显示装置，其特征在于，所述有机层包括：空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极、腔长调节层以及LiF层。

7.根据权利要求5所述的柔性有机发光显示装置，其特征在于，所述结构层包括：

偏光片、触控层以及封面。

8.根据权利要求5所述的柔性有机发光显示装置，其特征在于，所述封装层包括由无机材料构成的封装层，所述无机材料为SiNx、SiOx、SiONx、SiCNx以及Al2O3中的至少一种。

9.根据权利要求5所述的柔性有机发光显示装置，其特征在于，所述封装层包括由有机材料构成的封装层，所述有机材料为亚克力和环氧树脂中的至少一种。

10.一种柔性有机发光显示装置的制备方法，其特征在于，包括：

步骤S1：提供一柔性基底；

步骤S2：在所述柔性基底上形成缓冲层；

步骤S3：在所述缓冲层上设置绝缘层；

步骤S4：在所述绝缘层上设置聚合物平坦层；

步骤S5：通过光刻技术在所述聚合物平坦层上涂布一层像素隔离层，然后用黄光工序蚀刻掉位于平直区的像素隔离层但保留位于所述弯折区的像素隔离层；然后再在聚合物平坦层上进行一次像素隔离层的涂布，从而形成位于所述弯折区的第一像素隔离层以及位于所述平直区的第二像素隔离层，然后用黄光工序蚀刻出全部的像素区域，填充形成阳极；

步骤S6：在所述第一像素隔离层、所述第二像素隔离层和所述阳极上设置有机层；

步骤S7：在所述有机层上设置封装层；

步骤S8：在所述封装层上设置结构层。