[发明专利]一种成像调节装置和高通量基因测序仪有效
申请号: | 201811468044.1 | 申请日: | 2018-12-03 |
公开(公告)号: | CN111254066B | 公开(公告)日: | 2023-05-05 |
发明(设计)人: | 赵磊;张鑫;杨旺;乔彦峰 | 申请(专利权)人: | 长春长光华大智造测序设备有限公司 |
主分类号: | C12M1/34 | 分类号: | C12M1/34;G03B17/56;G03B30/00 |
代理公司: | 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 | 代理人: | 廖金晖;彭家恩 |
地址: | 130033 吉林省长春*** | 国省代码: | 吉林;22 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 成像 调节 装置 通量 基因 测序仪 | ||
本申请公开了一种成像调节装置和高通量基因测序仪,成像调节装置包括:基座,具有与X轴平行的台面;偏摆镜调节组件,包括偏摆镜安装座、第一偏摆镜调节装置和第二偏摆镜调节装置;由于成像调节装置包括偏摆镜调节组件和相机调节组件,偏摆镜调节组件可用于调节第一偏摆镜和第二偏摆镜分别沿Z轴和Y轴旋转,实现成像面沿着Y轴和Z轴平移,相机调节组件可用于调节相机沿X轴移动、沿Z轴、Y轴和X轴旋转,本成像调节装置实现了6个自由度的调节,使得相机的探测器面能够更为准确的对准成像像面,提高了成像的质量,从而提高了基因测序的精度。
技术领域
本发明涉及基因测序技术领域,具体涉及一种成像调节装置和高通量基因测序仪。
背景技术
高通量基因测序仪的成像系统用于激发荧光标记物(四种碱基分别用不同的荧光标记物进行标记),并将这些荧光标记物发射出的荧光信号成像到科学级CMOS相机探测器上。为了保证相机芯片上获得清晰的图像质量,需要对成像像面和相机芯片面的平面外运动(Z平移运动、thetaX旋转运动、thetaY旋转运动)进行精确控制。为了保证四路相机芯片间的相互对准,便于后续的图像处理,需要对成像像面和相机芯片面的平面内thetaZ旋转运动进行精确控制。为了保证高通量测序的需求,充分利用相机芯片的像元尺寸,保证成像区域尽可能占满整个相机芯片的感光区域,需要对成像像面和相机芯片面的平面内X平移运动和Y平移运动进行精确控制。因此高通量基因测序仪的成像像面和相机CMOS探测器面之间需要进行六自由度的精密调整。
现有技术中,如专利CN205539880U公布了一种相机校准结构及基因测序仪,相机校准结构使用了具有不同螺距螺纹段的螺栓,通过该螺栓的调节实现相机相对于基板位置的精确微调。但是该专利只能实现相机的前后调节、左右调节、上下调节和旋转角度调节,无法实现相机探测器面的俯仰和偏摆运动。
又如专利CN103929589A公布了CCD相机调整机构,通过调节螺杆和拉伸弹簧实现CCD相机的俯仰和偏摆,通过旋转纵向调整垫,实现CCD相机的纵向运动。但是该专利技术只能实现平面外的Z平移运动、thetaX旋转运动、thetaY旋转运动三自由度运动。
发明内容
本申请提供一种具有六自由度的成像调节装置和高通量基因测序仪。
第一方面,一种实施例中提供一种成像调节装置,包括:
基座,具有与X轴平行的台面;
偏摆镜调节组件,包括偏摆镜安装座、第一偏摆镜调节装置和第二偏摆镜调节装置,偏摆镜安装座安装在基座的台面上,偏摆镜安装座上具有X轴的通孔腔体;偏摆镜安装座上安装有第一偏摆镜调节装置和第二偏摆镜调节装置;第一偏摆镜调节装置的安装端沿Y轴伸入到偏摆镜安装座的通孔腔体内,用于将第一偏摆镜安装在偏摆镜安装座的通孔腔体内,第一板调节装置的调节端位于偏摆镜安装座的侧面,用于调节第一偏摆镜沿Y轴旋转;第二偏摆镜调节装置的安装端沿Z伸入到偏摆镜安装座的通孔腔体内,用于将第二偏摆镜安装在偏摆镜安装座的通孔腔体内,第二板调节装置的调节端位于偏摆镜安装座的顶面,用于调节第二偏摆镜沿Z轴旋转;
以及相机调节组件,包括第一调节板、第二调节板和第三调节板,第一调节板可沿X轴移动的安装在基座的台面上,第二调节板可沿Z轴旋转的安装在第一调节板上,第三调节板可沿X轴和Y轴旋转的安装在第二调节板上,第三调节板用于安装相机。
进一步地,第一偏摆镜调节装置和第二偏摆镜调节装置均包括转轴、调节块、第一固定块和第二固定块,转轴可沿旋转的安装在偏摆镜安装座上,转轴的一端伸入通孔腔体内,并且在端部设有用于卡装偏摆镜的卡口,转轴具有卡口的一端形成安装端,调节块垂直安装在转轴的另一端,第一固定块和第二固定块固定安装在偏摆镜安装座上,并位于调节块的两侧,第一固定块和第二固定块固定分别通过可调节的成像调节螺钉与调节块连接,成像调节螺钉用于调节转轴的旋转;第一偏摆镜调节装置的转轴沿Y轴设置,第二偏摆镜调节装置的转轴沿Z轴设置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长春长光华大智造测序设备有限公司,未经长春长光华大智造测序设备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811468044.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种恩诺沙星壳聚糖纳米粒
- 下一篇:门锁的控制方法和装置