[发明专利]一种SLD、LD光源SIP模块的制备方法在审

专利信息
申请号: 201811470601.3 申请日: 2018-12-04
公开(公告)号: CN109712970A 公开(公告)日: 2019-05-03
发明(设计)人: 田野 申请(专利权)人: 贵州航天控制技术有限公司
主分类号: H01L25/16 分类号: H01L25/16
代理公司: 中国航天科工集团公司专利中心 11024 代理人: 葛鹏
地址: 550009 贵州*** 国省代码: 贵州;52
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 金属层 制备 无源器件 内埋 压接 核心介质 介质材料 面积缩减 内部基板 向下形成 介质层 盲埋孔 走线层 基板 两层 阻焊 钻孔 电路 互联 图像 重复 制作 制造
【说明书】:

本公开涉及一种SLD、LD光源SIP模块的制备方法,包括:SiP模块内部基板采用8层高密度PCB器件内埋工艺,内部互联采用盲埋孔设计实现,其中L2、L3、L5、L7为主走线层,无源器件内埋在L4层,首先,在基板的核心介质层上压接金属层,之后在金属层上制作图像,形成L4和L5层;其次,在L4、L5层上下压接介质材料;再次,在L4层之上的介质层SMT焊接无源器件;再次,继续向上和向下形成两层金属层,形成L3层、L6层,重复上述过程制造L2层、L7层及L1、L8层,最后按照PCB工艺完成钻孔、阻焊等工艺。本发明的优点是:实现简单,制备的SLD、LD光源SiP模块与传统方案相比电路面积缩减40%。

技术领域

本发明涉及一种SLD、LD光源SIP模块的制备方法。

背景技术

常见的电路系统高度集成方法主要有两种,一种是SoC(Aystem on Chip)片上系统芯片,一种是SiP(System in Package)系统级封装。SoC是在一块芯片上整体实现数字电路、模拟电路甚至数模混合电路等多种功能,如在一块芯片上实现DSP、FPGA、存储器、接口驱动等,其优点是能够做到体积更小、性能更好、大批量生产时的成本更低,但是,若要把上述电路的各芯片集成在同一芯片上,工艺上较复杂,研发周期较长,设计错误、产品延迟和芯片制造反复等原因都可能导致成本增加,实现难度较大。传统的SLD(超辐射发光二极管)与LD(发光二极管)设计技术方案主要有以下缺点:电路布局非常紧凑,再减小电路面积困难。需根据整机系统结构要求不断变换外形尺寸,因此,重复对电路板布局布线,增加工作量。难实现通用化、模块化,需对每块电路进行装配焊接,效率不高,可靠性无法保证。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种SLD、LD光源SIP模块的制备方法,其具有比能量高、激活准备时间短的优点。

为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:一种SLD、LD光源SIP模块的制备方法,其特征在于,包括:SiP模块内部基板采用8层高密度PCB器件内埋工艺,内部互联采用盲埋孔设计实现,其中L2、L3、L5、L7为主走线层,无源器件内埋在L4层,器件内部工艺流程如下:

首先,在基板的核心介质层上压接金属层,之后在金属层上制作图像,形成L4和L5层;

其次,在L4、L5层上下压接介质材料;

再次,在L4层之上的介质层SMT焊接无源器件;

再次,继续向上和向下形成两层金属层,形成L3层、L6层,重复上述过程制造L2层、L7层及L1、L8层,最后按照PCB工艺完成钻孔、阻焊等工艺。

与现有技术相比,本发明具有以下有益的技术效果:

实现简单,本发明的SiP模块的技术方案并非HDI高密度PCB板集成,也非裸芯片SiP设计,而是采用高密度内埋无源器件基板设计的方案,该方案选用成品芯片进行设计,器件成本比较低。同时,基板内埋工艺相对封装基板材料价格也有优势,同时该产品在小型化程度、产品质量可靠性方面也可以保证。本发明方法制备的SLD、LD光源SiP模块与传统方案相比电路面积缩减40%,从根本上解决光纤陀螺用电路小型化问题。SLD、LD光源SiP模块性能稳定、工作可靠,避免因整机结构变化而重复电路板设计,减少整机电路设计的工作量和难度,提高效率。SLD、LD光源SiP模块实现通用化、模块化后,焊点减少,降低了电路装配的难度。

附图说明

图1是本发明的SLD、LD光源SIP模块的结构示意图。

具体实施方式

下面通过具体实施方案对本发明作进一步详细描述,但这些实施实例仅在于举例说明,并不对本发明的范围进行限定。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于贵州航天控制技术有限公司,未经贵州航天控制技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811470601.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top