[发明专利]一种SLD、LD光源SIP模块的制备方法在审
申请号: | 201811470601.3 | 申请日: | 2018-12-04 |
公开(公告)号: | CN109712970A | 公开(公告)日: | 2019-05-03 |
发明(设计)人: | 田野 | 申请(专利权)人: | 贵州航天控制技术有限公司 |
主分类号: | H01L25/16 | 分类号: | H01L25/16 |
代理公司: | 中国航天科工集团公司专利中心 11024 | 代理人: | 葛鹏 |
地址: | 550009 贵州*** | 国省代码: | 贵州;52 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 金属层 制备 无源器件 内埋 压接 核心介质 介质材料 面积缩减 内部基板 向下形成 介质层 盲埋孔 走线层 基板 两层 阻焊 钻孔 电路 互联 图像 重复 制作 制造 | ||
本公开涉及一种SLD、LD光源SIP模块的制备方法,包括:SiP模块内部基板采用8层高密度PCB器件内埋工艺,内部互联采用盲埋孔设计实现,其中L2、L3、L5、L7为主走线层,无源器件内埋在L4层,首先,在基板的核心介质层上压接金属层,之后在金属层上制作图像,形成L4和L5层;其次,在L4、L5层上下压接介质材料;再次,在L4层之上的介质层SMT焊接无源器件;再次,继续向上和向下形成两层金属层,形成L3层、L6层,重复上述过程制造L2层、L7层及L1、L8层,最后按照PCB工艺完成钻孔、阻焊等工艺。本发明的优点是:实现简单,制备的SLD、LD光源SiP模块与传统方案相比电路面积缩减40%。
技术领域
本发明涉及一种SLD、LD光源SIP模块的制备方法。
背景技术
常见的电路系统高度集成方法主要有两种,一种是SoC(Aystem on Chip)片上系统芯片,一种是SiP(System in Package)系统级封装。SoC是在一块芯片上整体实现数字电路、模拟电路甚至数模混合电路等多种功能,如在一块芯片上实现DSP、FPGA、存储器、接口驱动等,其优点是能够做到体积更小、性能更好、大批量生产时的成本更低,但是,若要把上述电路的各芯片集成在同一芯片上,工艺上较复杂,研发周期较长,设计错误、产品延迟和芯片制造反复等原因都可能导致成本增加,实现难度较大。传统的SLD(超辐射发光二极管)与LD(发光二极管)设计技术方案主要有以下缺点:电路布局非常紧凑,再减小电路面积困难。需根据整机系统结构要求不断变换外形尺寸,因此,重复对电路板布局布线,增加工作量。难实现通用化、模块化,需对每块电路进行装配焊接,效率不高,可靠性无法保证。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于提供一种SLD、LD光源SIP模块的制备方法,其具有比能量高、激活准备时间短的优点。
为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:一种SLD、LD光源SIP模块的制备方法,其特征在于,包括:SiP模块内部基板采用8层高密度PCB器件内埋工艺,内部互联采用盲埋孔设计实现,其中L2、L3、L5、L7为主走线层,无源器件内埋在L4层,器件内部工艺流程如下:
首先,在基板的核心介质层上压接金属层,之后在金属层上制作图像,形成L4和L5层;
其次,在L4、L5层上下压接介质材料;
再次,在L4层之上的介质层SMT焊接无源器件;
再次,继续向上和向下形成两层金属层,形成L3层、L6层,重复上述过程制造L2层、L7层及L1、L8层,最后按照PCB工艺完成钻孔、阻焊等工艺。
与现有技术相比,本发明具有以下有益的技术效果:
实现简单,本发明的SiP模块的技术方案并非HDI高密度PCB板集成,也非裸芯片SiP设计,而是采用高密度内埋无源器件基板设计的方案,该方案选用成品芯片进行设计,器件成本比较低。同时,基板内埋工艺相对封装基板材料价格也有优势,同时该产品在小型化程度、产品质量可靠性方面也可以保证。本发明方法制备的SLD、LD光源SiP模块与传统方案相比电路面积缩减40%,从根本上解决光纤陀螺用电路小型化问题。SLD、LD光源SiP模块性能稳定、工作可靠,避免因整机结构变化而重复电路板设计,减少整机电路设计的工作量和难度,提高效率。SLD、LD光源SiP模块实现通用化、模块化后,焊点减少,降低了电路装配的难度。
附图说明
图1是本发明的SLD、LD光源SIP模块的结构示意图。
具体实施方式
下面通过具体实施方案对本发明作进一步详细描述,但这些实施实例仅在于举例说明,并不对本发明的范围进行限定。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于贵州航天控制技术有限公司,未经贵州航天控制技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811470601.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:功率半导体模块的制造方法及功率半导体模块
- 下一篇:半导体静电放电保护元件
- 同类专利
- 专利分类