[发明专利]研磨装置用调节器在审
申请号: | 201811474030.0 | 申请日: | 2018-12-04 |
公开(公告)号: | CN111055213A | 公开(公告)日: | 2020-04-24 |
发明(设计)人: | 崔光洛;金泰贤 | 申请(专利权)人: | 凯斯科技股份有限公司 |
主分类号: | B24B37/34 | 分类号: | B24B37/34 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 姜虎;陈英俊 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨 装置 调节器 | ||
1.一种研磨装置用调节器,其特征在于,包括:
调节盘,其用于重整研磨垫;
加压部,其用于向所述调节盘施加轴向的压力;
测量部,其设置于所述加压部与所述调节盘之间,用于测量来自所述加压部的所述压力;
校正部,其基于所述测量部测量的信号,校正来自所述加压部的所述压力。
2.根据权利要求1所述的研磨装置用调节器,其特征在于,
所述测量部在所述调节盘的移动和旋转停止的停止位置上,测量来自所述加压部的所述压力。
3.根据权利要求2所述的研磨装置用调节器,其特征在于,
所述校正部在所述调节盘配置于所述研磨垫的状态下,校正来自所述加压部的所述压力。
4.根据权利要求1所述的研磨装置用调节器,其特征在于,
包括存储有所述调节盘的基准压力范围的数据库,
所述校正部基于所述测量部测量的所述调节盘的测量压力范围与所述基准压力范围间的偏差,校正来自所述加压部的所述压力。
5.根据权利要求4所述的研磨装置用调节器,其特征在于,
所述基准压力范围按照所述调节盘的使用年限,并基于在所述研磨垫中由所述测量部测量的所述测量压力范围而存储。
6.根据权利要求4所述的研磨装置用调节器,其特征在于,
包括警报发生部,当所述测量压力范围与所述基准压力范围间的偏差超出基准偏差范围时,所述警报发生部发出警报信号。
7.根据权利要求1所述的研磨装置用调节器,其特征在于,
所述校正部在对所述研磨垫进行调节工序之前,校正来自所述加压部的所述压力。
8.根据权利要求1所述的研磨装置用调节器,其特征在于,
包括旋转部,其结合于所述调节盘的上部,使所述调节盘旋转,
所述加压部设置于所述旋转部的上部,所述测量部设置于所述加压部与所述旋转部之间,在将来自所述加压部的所述压力传递给所述旋转部的同时测量所述压力。
9.根据权利要求8所述的研磨装置用调节器,其特征在于,
所述测量部借助于所述加压部而选择性地沿上下方向移动,从而接触所述旋转部或从所述旋转部隔开。
10.根据权利要求9所述的研磨装置用调节器,其特征在于,
包括第一耦合器,其结合于所述旋转部的上部,
当所述测量部借助于所述加压部而移动到下部时,所述测量部接触所述第一耦合器,所述压力经所述第一耦合器传递至所述旋转部,
当所述测量部借助于所述加压部而移动到上部时,所述测量部从所述第一耦合器隔开。
11.根据权利要求10所述的研磨装置用调节器,其特征在于,
所述旋转部包括:
花键轴,其结合于所述调节盘;
轴承构件,其以包围所述花键轴外周的方式与所述花键轴结合,用于支撑所述第一耦合器,
被传递至所述第一耦合器的所述压力,经所述轴承构件传递至所述花键轴。
12.根据权利要求11所述的研磨装置用调节器,其特征在于,
所述第一耦合器沿所述轴承构件的圆周方向,连续地支撑于所述轴承构件;
被传递至所述第一耦合器的所述压力,沿着所述轴承构件以呈环形态分散的状态传递至所述花键轴。
13.根据权利要求9所述的研磨装置用调节器,其特征在于,
包括第二耦合器,其借助于所述加压部而选择性地沿上下方向移动;
所述测量部固定结合于所述第二耦合器。
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