[发明专利]一种片式天线及其制备方法在审
申请号: | 201811476530.8 | 申请日: | 2018-12-04 |
公开(公告)号: | CN109553401A | 公开(公告)日: | 2019-04-02 |
发明(设计)人: | 吴昊 | 申请(专利权)人: | 上海安费诺永亿通讯电子有限公司 |
主分类号: | C04B35/10 | 分类号: | C04B35/10;C04B35/622;C04B41/00;C04B41/90;H01Q1/38 |
代理公司: | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人: | 胡晶 |
地址: | 201108 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 天线 陶瓷基座 界面结合层 金属线路层 多层结构 片式天线 制备 天线技术领域 表面粗糙度 高频频段 过孔位置 基座材料 金属线路 力学性能 耐温性能 射频性能 陶瓷支撑 下表面 陶瓷 | ||
本发明属于天线技术领域,公开了一种片式天线,包括陶瓷基座和金属线路层,陶瓷基座为多层结构,包括至少一层陶瓷支撑层和至少一层界面结合层;金属线路层为一层或多层结构,其附于所述的陶瓷基座的外表面和过孔位置。本发明还公开了该片式天线的其制备方法。该片式天线以陶瓷作为天线的基座材料,具有优良的力学性能和耐温性能,界面结合层只有1~3um,该厚度可以限制金属线路下表面的表面粗糙度范围,从而确保天线在高频频段能够保持优良的射频性能。
技术领域
本发明属于天线技术领域,涉及一种片式天线及其制备方法。
背景技术
片式天线在电气工程和微电子领域有着广泛的应用。目前,片式天线的工作频率越来越向高频拓展,但由于趋肤效应的存在,天线对表面金属层提出更高要求,具体而言,需要表面金属层与下面基座的界面越来越光滑,而且与此同时,还需保证界面结合力。
从已有的制备工艺来看,还有不足之处,具体而言如下:
例如采用FPC工艺来制备高频天线,人们选用低表面粗糙度的铜箔来作为高频天线的金属层。但下表面粗糙度在1~3um范围的铜箔不仅成本极其高昂,而且与FPC基材的界面结合力不可避免的发生一定程度的下降。如果用来制备天线,会导致产品的可靠性太差,目前该类FPC产品大部分仅仅处于研究阶段,鲜有大规模应用的案例。
再例如采用LDS工艺来制备天线,适合LDS工艺的塑料种类有限,而且在经激光镭射后,塑料表面粗糙度很难达到3um以下,一般而言,Ra值均要超过5um,这就决定了该技术其实更适合制备低频天线,而不适合制备高频天线。
发明内容
为了解决上述技术问题,本发明提供了一种片式天线及其制备方法,该片式天线的工作频率适合于高频,具体而言,尤其适合于工作频率大于6GHz以上的频段。
本发明的技术方案如下:
一种片式天线,包括陶瓷基座和金属线路层;其中,
所述的陶瓷基座为多层结构,包括至少一层陶瓷支撑层和至少一层界面结合层;
所述的金属线路层为一层或多层结构,其附于所述的陶瓷基座的外表面和过孔位置。
本发明的一实施例中,所述的陶瓷支撑层的材质为氧化铝、氧化锆、氧化镁、氧化钙、氧化锶、氧化钡、氧化钇、氧化铈、氧化钪、氧化硅、氧化锌、氧化镧、氧化钛、碳化硅、氮化铝或硅酸铝中的一种或几种。
本发明的一实施例中,所述的界面结合层包括主体材质和活性材质,所述的主体材质为氧化铝、氧化锆、氧化镁、氧化钙、氧化锶、氧化钡、氧化钇、氧化铈、氧化钪、氧化硅、氧化锌、氧化镧、氧化钛、碳化硅、氮化铝或硅酸铝中的一种或几种,所述的活性材质为氧化镍、氧化铜、氧化铬、氧化铁、氧化钴、钨、钼或铂中的一种或几种。
本发明的一实施例中,所述的陶瓷支撑层的材质与所述的主体材质相同。
本发明的一实施例中,所述的金属线路层的材质为钨、钼、铂、铜、银、钯、金、镍、钴、铁、铝或铬中的一种或几种。
本发明的一实施例中,所述的陶瓷支撑层的厚度为100um~10mm,优选为150um~5mm。
本发明的一实施例中,所述的界面结合层的厚度为1um~10um,优选为1um~3um。
本发明的一实施例中,所述的金属线路层的厚度为5um~50um。
本发明还公开了上述的片式天线的制备方法,包括以下步骤:
(1)制作片式陶瓷基座
a、利用流延成型工艺制备陶瓷支撑层素坯,并对素坯进行裁切,得到陶瓷支撑层;
b、利用流延成型工艺制备界面结合层素坯,并对素坯进行裁切,得到界面结合层;
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