[发明专利]一种高透光率保护膜及其制备方法

权利要求书

1.一种高透光率保护膜，其特征在于，包括基底层和功能层，所述基底层为离型膜层(10)，所述功能层包括依次层叠的压敏硅胶层(20)、PC基膜层(30)和防刮涂层(40)，所述压敏硅胶层(20)贴附于所述离型膜层(10)之上，所述基底层可与所述功能层分离；

所述压敏硅胶层(20)的厚度为10-50μm,所述PC基膜层(30)的厚度为75-190μm,所述防刮涂层(40)的厚度为3-6μm；

其中，所述PC基膜层(30)采用流延成型的PC薄膜,所述PC基膜层(30)的表面经过电晕处理，其表面达因值≥32；

所述防刮涂层(40)是经紫外线固化的硬化涂层，所述防刮涂层(40)的原料包括：5-10份的硅烷偶联剂、0.5-1份的纳米银分散液、30-50份的丙烯酸树脂、0.5-3份的光引发剂、以及100份的溶剂,所述纳米银分散液的浓度为0.5％，所述溶剂为乙醇和/或异丙醇；

以上份均为重量份。

2.根据权利要求1所述的高透光率保护膜，其特征在于，

所述防刮涂层(40)的表面硬度≥750g 3H，水接触角≥105°。

3.根据权利要求1所述的高透光率保护膜，其特征在于，

所述高透光率保护膜还包括保护层，所述保护层包括保护胶层(50)和保护基层(60)，所述保护胶层(50)贴附于所述防刮涂层(40)之上，所述保护层可与所述功能层分离。

4.根据权利要求1所述的高透光率保护膜，其特征在于，

所述功能层的透光率≥90％，雾度≤1％。

5.一种如权利要求1-4任一项所述的高透光率保护膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)采用流延成型的PC薄膜作为基膜层，在所述基膜层的一面均匀涂布防刮涂料，所述防刮涂料经预干燥和紫外线固化后形成一层防刮涂层,所述防刮涂料的原料包括：5-10份的硅烷偶联剂、0.5-1份的纳米银分散液、30-50份的丙烯酸树脂、0.5-3份的光引发剂、以及100份的溶剂,所述纳米银分散液的浓度为0.5％，所述溶剂为乙醇和/或异丙醇，以上份均为重量份；

(2)在所述基膜层的另一面均匀涂布并成型一层压敏硅胶层；

(3)将离型膜贴合在所述压敏硅胶层上，形成保护膜结构；

其中，在所述步骤(1)之前，所述方法还包括：

将所述PC薄膜的表面经过电晕处理，使其表面达因值≥32。