[发明专利]一种高精度机械抛光液制备方法在审

专利信息
申请号: 201811485308.4 申请日: 2018-12-06
公开(公告)号: CN109370441A 公开(公告)日: 2019-02-22
发明(设计)人: 陈国强 申请(专利权)人: 嘉兴市劼力机械科技有限公司
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 314005 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 抛光液 高精度机械 混合溶液 去离子水 石英石 放入 微粉 制备 油酸 超声波搅拌器 调节混合溶液 乙基纤维素钠 六偏磷酸钠 玻璃纤维 充分混合 工件表面 工艺步骤 抛光效率 石英石粉 蒸汽压力 研磨 蒸压釜 重量份 蒸压 生产成本 冷却 湿润 损伤
【说明书】:

发明公开一种高精度机械抛光液制备方法,以重量份计,包括有以下工艺步骤:(1)将8‑10石英石粉、0.5‑1.5份油酸、4‑5份的去离子水,放入超声波搅拌器搅拌20‑30min,进行研磨,得到湿润的石英石微粉;(2)将步骤(1)得到的石英石微粉与0.2‑0.3份的乙基纤维素钠、0.1‑0.2份的六偏磷酸钠、1.4‑1.5份的玻璃纤维、22‑24份的去离子水充分混合,得的混合溶液;(3)向步骤(2)得到的混合溶液放入蒸压釜中,蒸汽压力为1.5‑2.5Mpa,蒸压2‑4h,然后冷却至常温,加入pH调节剂调节混合溶液的pH值至8‑10;本发明具有生产成本降低的优点,同时该抛光液具有平化抛光效率高,不损伤工件表面的优点。

技术领域

本发明涉及机械抛光液领域,具体属于一种高精度机械抛光液制备方法。

背景技术

化学机械抛光由化学作用、机械作用以及这两种作用结合而成。它通常由一个带有抛光垫的研磨台,及一个用于承载芯片的研磨头组成。其中研磨头固定住芯片,然后将芯片的正面压在抛光垫上。当进行化学机械抛光时,研磨头在抛光垫上线性移动或是沿着与研磨台一样的运动方向旋转。与此同时,含有研磨颗粒的浆液被滴到抛光垫上,并因离心作用平铺在抛光垫上。芯片表面在机械和化学的双重作用下实现全局平坦化。

目前,化学机械抛光液所用的研磨颗粒通常采用二氧化硅,包括硅溶胶和气相二氧化硅。它们本身是固体,但是在水溶液中可以均匀分散,不沉降,甚至可以保持1至3年的长期稳定性。

发明内容

本发明的目的是提供一种高精度机械抛光液制备方法,具有生产成本降低的优点,同时该抛光液具有平化抛光效率高,不损伤工件表面的优点。

本发明所采用的技术方案如下:

一种高精度机械抛光液制备方法,以重量份计,包括有以下工艺步骤:

(1)将8-10份石英石粉、0.5-1.5份油酸、4-5份的去离子水,放入超声波搅拌器搅拌20-30min,进行研磨,得到湿润的石英石微粉;

(2)将步骤(1)得到的石英石微粉与0.2-0.3份的乙基纤维素钠、0.1-0.2份的六偏磷酸钠、1.4-1.5份的玻璃纤维、22-24份的去离子水充分混合,得的混合溶液;

(3)向步骤(2)得到的混合溶液放入蒸压釜中,蒸汽压力为1.5-2.5Mpa,蒸压2-4h,然后冷却至常温,加入pH调节剂调节混合溶液的pH值至8-10;

(4)将混合溶液的含水率蒸发至60-65%,进行密封灌装成抛光液成品。所述的石英石粉是经过球磨粉碎、过筛、提纯工序制得。

所述超声波搅拌器的超声频率为30KHz-50KHz。

本发明通过石英石作为磨料,以六偏磷酸钠对石英石微粉进行改性,并乙基纤维素钠作为分散剂将石英石高度分散稳定性,同时通过高度浓缩可以大幅降低产品原材料成本。本发明具有生产成本降低的优点,同时该抛光液具有平化抛光效率高,不损伤工件表面的优点。

具体实施方式

实施例一:

(1)将8份石英石粉、0.5份油酸、4份的去离子水,放入超声波搅拌器搅拌20min,进行研磨,得到湿润的石英石微粉;石英石粉是经过球磨粉碎、过筛、提纯工序制得,超声波搅拌器的超声频率为30KHz-50KHz;

(2)将步骤(1)得到的石英石微粉与0.2份的乙基纤维素钠、0.1份的六偏磷酸钠、1.4份的玻璃纤维、22份的去离子水充分混合,得的混合溶液;

(3)向步骤(2)得到的混合溶液放入蒸压釜中,蒸汽压力为1.5-2.5Mpa,蒸压2-4h,然后冷却至常温,加入pH调节剂调节混合溶液的pH值至8-10;

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