[发明专利]一种便于维护和调节的射频离子源装置有效
申请号: | 201811486384.7 | 申请日: | 2018-12-06 |
公开(公告)号: | CN109755085B | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | 王小军;李建鹏;张天平;李兴达;张兴民;赵成仁 | 申请(专利权)人: | 兰州空间技术物理研究所 |
主分类号: | H01J27/02 | 分类号: | H01J27/02;H01J27/16 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 温子云;仇蕾安 |
地址: | 730000 甘*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 便于 维护 调节 射频 离子源 装置 | ||
1.一种便于维护和调节的射频离子源装置,其特征在于,包括:外壳、栅极组件(1)、放电室(9)、离子源进气单元、可调线圈支架组件和线圈(10);
所述外壳的前盖(2)和后座(5)采用可拆分的连接方式与外壳主体固定;
栅极组件(1)与放电室(9)配合安装后,固定于外壳的前盖(2);离子源供气单元固定于外壳的后座(5),离子源供气单元的气路接头伸入放电室上开设的供气孔(9-1),对放电室供气;
线圈(10)通过可调线圈支架组件缠绕于放电室外壁,可调线圈支架组件固定于外壳的后座(5),且高度可调;线圈端部通过穿壳绝缘组件(4)穿出外壳;可调线圈支架组件与线圈接触的部分采用绝缘材料;
所述离子源供气单元包括气路绝缘器(6)、气路接头(16)、上安装法兰(17)和下安装法兰(18);气路绝缘器(6)和气路接头(16)通过上安装法兰(17)和下安装法兰(18)固定连接后,气路绝缘器(6)固定于外壳的后座(5),气路接头(16)伸入放电室上开设的供气孔(9-1)。
2.如权利要求1所述的射频离子源装置,其特征在于,放电室(9)的供气孔(9-1)处设置卡槽配合安装保护机构,该卡槽配合安装保护机构由穿孔卡槽(15)、平垫圈(13)和挡圈(14)组成;穿孔卡槽(15)设置在供气孔(9-1)内,穿孔卡槽(15)一端加工有直径大于所述供气孔(9-1)的外沿,另一端套入平垫圈(13)和挡圈(14),并通过所述外沿与挡圈(14)的配合,实现穿孔卡槽(15)在所述供气孔(9-1)处的定位。
3.如权利要求1所述的射频离子源装置,其特征在于,所述穿壳绝缘组件(4)由压板(4-1)和2个穿壳绝缘陶瓷(4-2)组成;穿壳绝缘陶瓷(4-2)上端穿过压板(4-1)通孔,下端穿过后座(5)上通孔,通过压板(4-1)安装在后座(5)上;线圈端部通过穿壳绝缘陶瓷(4-2)提供的通道伸出外壳;穿壳绝缘陶瓷(4-2)是由2个对半切开的部分对合组成,对线圈进行夹紧固定。
4.如权利要求1所述的射频离子源装置,其特征在于,所述可调线圈支架组件由线圈安装架(3)和可调高度的支撑组件组成;线圈安装架(3)上开设有用于穿过线圈的安装孔,线圈安装架(3)通过支撑组件固定于后座(5);线圈安装架(3)采用绝缘材料。
5.如权利要求4所述的射频离子源装置,其特征在于,所述支撑组件由支撑架(7)和支撑板(8)组成;支撑架(7)为L型机构,一直角边固定于后座(5),另一直角边上开有U型槽;支撑板(8)上开设有多个可供选择的定位孔;线圈安装架(3)与支撑板(8)之间,以及支撑板(8)与支撑架(7)之间均通过螺栓固定;通过调整支撑板(8)上定位孔与支撑架(7)U型槽的螺栓连接配合位置,实现线圈能量与放电室不同位置的耦合。
6.如权利要求4或5所述的射频离子源装置,其特征在于,线圈安装架(3)由两个部分对合而成,这两个部分均开设有半圆结构安装孔,对合后形成圆形结构安装孔,用于穿过线圈。
7.如权利要求1所述的射频离子源装置,其特征在于,所述栅极组件(1)与放电室(9)配合安装的方式为:放电室(9)外壁固定有放电室安装环(12),栅极组件中的栅极组件安装环(11)与放电室安装环(12)通过螺栓连接,连接后形成的结构进一步通过栅极组件安装环(11)上提供的安装孔与前盖(2)螺栓连接。
8.如权利要求1所述的射频离子源装置,其特征在于,所述外壳包括前盖(2)、圆筒形外壁(19)和后座(5),三者通过螺栓连接。
9.如权利要求1所述的射频离子源装置,其特征在于,所述放电室(9)、穿壳绝缘组件(4)的材料为氧化铝陶瓷。
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