[发明专利]植球装置及方法有效
申请号: | 201811487743.0 | 申请日: | 2018-12-06 |
公开(公告)号: | CN109585308B | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
发明(设计)人: | 霍文培;杨义松;刘文治 | 申请(专利权)人: | 北京无线电测量研究所 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H01L21/67 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人: | 杨立 |
地址: | 100854 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 方法 | ||
1.一种植球装置,由贴片机组成,所述贴片机包括:贴片处、蘸胶盘、刮板、吸嘴和主控模块,其特征在于,所述蘸胶盘上方设置有图像传感器,所述蘸胶盘内设置有按预设规则排布的多个凹孔,其中:
所述贴片处用于放置待植球的基板,所述凹孔用于放置焊球,所述刮板用于当所述蘸胶盘旋转时,将所述焊球刮入全部所述凹孔内,所述图像传感器用于获取全部所述凹孔的位置图像,所述主控模块用于当所述蘸胶盘停止旋转时,根据全部所述凹孔的位置图像控制所述吸嘴将全部所述凹孔内的焊球吸出,放置在所述基板的预设植球位置处。
2.根据权利要求1所述的植球装置,其特征在于,每个所述凹孔的深度hh为:
0.5hb≤hh≤hb
其中,hb为所述焊球的直径。
3.根据权利要求1所述的植球装置,其特征在于,所述贴片机的刮板高度hs为:
1.1hb≤hs≤1.9hb
其中,hb为所述焊球的直径。
4.根据权利要求1所述的植球装置,其特征在于,所述贴片机的吸嘴内径d为:
0.7hb≤d≤0.95hb
其中,hb为所述焊球的直径。
5.一种植球方法,由贴片机执行,所述贴片机包括:贴片处、蘸胶盘、刮板、吸嘴和主控模块,其特征在于,所述植球方法包括:
将基板放入所述贴片处;
将多个焊球放入所述蘸胶盘中,所述蘸胶盘内设置有按预设规则排布的多个凹孔,所述凹孔用于放置所述焊球;
启动所述贴片机,使所述蘸胶盘旋转,通过所述刮板将所述焊球刮入全部所述凹孔内;
待所述蘸胶盘停止旋转后,获取全部所述凹孔的位置图像,主控模块根据全部所述凹孔的位置图像控制所述吸嘴将全部所述凹孔内的焊球吸出,放置在所述基板的预设植球位置处,完成植球。
6.根据权利要求5所述的植球方法,其特征在于,还包括:
植球完成后,对所述基板进行自动光学检测;
检测通过后,将所述基板放置到回流焊炉中进行回流,使焊球焊接在所述基板上。
7.根据权利要求5所述的植球方法,其特征在于,将基板放入所述贴片处之前,还包括:
在所述基板的预设植球位置处点助焊剂或焊膏。
8.根据权利要求5所述的植球方法,其特征在于,启动所述贴片机之前,还包括:
调整刮板高度hs,使所述刮板高度hs满足:
1.1hb≤hs≤1.9hb
其中,hb为所述焊球的直径。
9.根据权利要求5所述的植球方法,其特征在于,每个所述凹孔的深度hh为:
0.5hb≤hh≤hb
其中,hb为所述焊球的直径。
10.根据权利要求5所述的植球方法,其特征在于,吸嘴内径d为:
0.7hb≤d≤0.95hb
其中,hb为所述焊球的直径。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造