[发明专利]一种凹版铜层专用抛光膏

说明书

本发明公开了一种凹版铜层专用抛光膏，按质量百分数计，其配方如下：1%‑4%的十八酸、2%‑5%的石蜡、3%‑6%的油脂、30%‑50%的磨料、35%‑55%的水、助剂0.1%‑0.5%，制备工艺如下：先称取水，加热到80℃，然后加入十八酸、石蜡和油脂，待其全部溶解后加入磨料和助剂，充分搅拌均匀，冷却即可。本发明以水为溶剂，以十八酸、石蜡、油脂、磨料等为基本原料，再配入相应助剂，然后以其特定的工艺制备得到凹版铜层专用抛光膏，该抛光膏不仅制备工艺简单，而且原料配方简单，抛光膏兼有水性抛光膏和油性抛光膏的优点，并克服其缺点，具有无气味、对人体无伤害、出光性好、用量少、工件表面无残留等特点。

技术领域

本发明涉及表面处理技术领域，具体涉及一种凹版电镀铜层表面抛光所用的抛光膏。

背景技术

抛光是物体表面处理常用的方法之一，其目的是为了消除金属表面的细微不平，使表面具有镜面光泽，这不但是产品美化的需要，也是保证产品质量，延长使用寿命及发展新品种的重要手段，也能为产品其它表面处理做前处理的作用，从而提升产品价值。抛光可分为机械抛光、化学抛光和电化学抛光，目前常用的抛光处理材料有抛光蜡、抛光膏和抛光液，抛光蜡、抛光膏一般用于机械抛光，抛光液一般则用于化学抛光和电化学抛光。

目前，凹版电镀铜层表面抛光所用的抛光膏有两种，水性抛光膏和油性抛光膏，水性抛光膏以水为溶剂、环保无气味、对人体无伤害，但使用量较大、出光性能一般、且工件易残留黑色油脂。油性抛光膏出光性好、用量少、工件表面基本无残留，但含有挥发性有机溶剂、有气味，长期使用对人体有危害。

发明内容

本发明要解决的技术问题是针对现有技术的缺点，提供一种兼具水性抛光膏和油性抛光膏优点、克服其缺点，以水为溶剂、无气味、对人体无伤害、出光性好、用量少、工件表面无残留的凹版铜层专用抛光膏。

为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：一种凹版铜层专用抛光膏，其特征在于：按质量百分数计，其配方如下： 1%-4%的十八酸、2%-5%的石蜡、3%-6%的油脂、30%-50%的磨料、35%-55%的水、助剂0.1%-0.5%。

较佳地，按质量计，各组分的配方如下：十八酸1%-3%、石蜡1.5%-3.5%、油脂3%-5%、磨料40%-50%、水45%-55%、助剂0.1%-0.2%。

优选地，所述油脂为牛油、羊油、棕榈油、甘油中的一种或者任意若干种复配。

优选地，所述磨料为3000#的碳化硅、棕刚玉、氧化铝、白刚玉中一种或者任意若干种复配。

优选地，所述水为去离子水或者蒸馏水。

优选地，所述石蜡为液体石蜡或者固体石蜡。

进一步地，该凹版铜层专用抛光膏的制备工艺如下：先称取水，加热到80℃，然后加入十八酸、石蜡和油脂，待其全部溶解后加入磨料和助剂，充分搅拌均匀，冷却即可。

所述助剂采用表面活助性，包括TX-10、OP-10、季铵盐、十二烷基硫酸钠等其中的至少一种。

本发明以水为溶剂，采用油水乳化技术混合，故兼具油脂优异的除光性能，且不含有机溶剂，无气味、对人体无伤害，油脂采用天然动植物油为主、合成矿物油为辅，因而易清洁、无残留。

本发明以水为溶剂，以十八酸、石蜡、油脂、磨料等为基本原料，再配入相应助剂，然后以其特定的工艺制备得到凹版铜层专用抛光膏，该抛光膏不仅制备工艺简单，而且原料配方简单，抛光膏兼有水性抛光膏和油性抛光膏的优点，并克服其缺点，具有无气味、对人体无伤害、出光性好、用量少、工件表面无残留等特点。

具体实施方式

下面结合具体实施方式做进一步说明：

实施例1