[发明专利]图案的形成方法及形成装置

说明书

本发明提供图案的形成方法及形成装置，能够通过使残存于转印材料内的微细气泡减少，并抑制在向模具的图案完全地填充转印材料的时机之前完成了按压的情况下残存于模具的图案内的气泡，由此提高转印精度。其特征在于，具有：向模具的图案填充转印材料的工序A；以及将填充于所述图案的所述转印材料转印到被转印体的工序B，在所述工序A中，向所述转印材料施加超声波振动。

技术领域

本发明涉及使用了压印技术的图案的形成方法及形成装置。

背景技术

近年来，在用于显示器、照明等商品的光学部件中，期望实现体现了对光的反射、衍射进行控制的以往没有的新功能的设备。另外，在系统LSI等半导体中，期望与高集成化相伴的布线的微细化。这些要求例如通过形成发挥特殊光学特性的纳米(nm)级至微米(μm)级的微细图案而实现。作为形成这种微细结构的方法，压印技术得到关注。压印技术是指，通过将预先在表面上加工有图案的型模按压于在基材表面上涂敷的树脂而形成图案的方法。

以下，使用图4、图5来说明通过作为压印方法的一种的UV压印法而形成图案的通常的工序流程。图4是通常的平板式压印工序的概要示意图。首先，在图4的(a)所示的工序中，在平坦的工作台41上载置形成有图案(凹凸)的模具42，利用分配器或喷墨等在模具42上涂敷转印材料43。或者，预先准备涂敷有转印材料43的模具42并载置到工作台41上。接着，在图4的(b)所示的工序中，从膜44的上表面进给圆筒状的辊45，由此以线状对膜44进行按压，向模具42的图案填充转印材料43。接着，在图4的(c)所示的工序中，从膜44的上方利用UV照射器49进行UV照射，使转印材料43固化。最后，在图4的(d)所示的工序中，使膜44相对于模具42向斜上方或垂直方向移动，由此，使转印材料43从模具42脱模。经过这些工序，在作为被转印体的膜44上形成使模具42的图案的凹凸反转后的图案。

图5的(b-1)是将上述的转印方法的图4的(b)所示的工序中的转印材料填充部放大后的示意图。图5的(b-2)是将上述的转印方法的图4的(c)所示的工序中的固化后的转印形状放大后的示意图。如图5的(b-1)所示，已经存在于转印材料53内的微细气泡52残存于填充后的转印材料53内。其结果是，如图5的(b-2)所示，由于微细气泡52的原因而在固化后的图案内部产生缺陷部。此外，如图5的(b-1)所示，气泡51残存于图案内。这样的现象是在图4的(b)所示的工序中，在向模具42的图案完全地填充转印材料43的时机之前使从膜44的上表面进行按压的圆筒状的辊45通过而完成了按压的情况等下引起的。其结果是，如图5的(b-2)所示，由于气泡51的原因而在固化后的图案形状中产生缺陷部。这些缺陷部损害转印精度。

作为解决上述课题的方法，已知有专利文献1中记载的、在具有冷凝性的气体中进行压印工序的方法。根据该方法，能够抑制因残存于图案内的气泡51的原因而在图案形状中产生缺陷部的情况。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2004-103817号公报

发明内容

发明所要解决的课题

然而，现有例所示的方法无法抑制因残存于转印材料内的微细气泡的原因而在图案内部产生缺陷部的情况。此外，因转印材料吸收冷凝性气体而产生转印后的图案形状的走样。由于这些情况而损害转印精度。

对此，本发明的目的在于提供图案的形成方法及形成装置，能够通过使残存于转印材料内的微细气泡减少，并抑制在向模具的图案完全地填充转印材料的时机之前完成了膜的按压的情况下残存于图案内的气泡，由此提高转印精度。

用于解决课题的方案

为了实现上述目的，本发明的图案的形成方法的特征在于，具有：向模具的图案填充转印材料的工序A；以及将填充于所述图案的所述转印材料转印到被转印体的工序B，在所述工序A中，向所述转印材料施加超声波振动。