[发明专利]图像传感器及其形成方法有效
申请号: | 201811492963.2 | 申请日: | 2018-12-07 |
公开(公告)号: | CN109713002B | 公开(公告)日: | 2021-08-31 |
发明(设计)人: | 王亮;内藤逹也 | 申请(专利权)人: | 德淮半导体有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 武振华;吴敏 |
地址: | 223302 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图像传感器 及其 形成 方法 | ||
1.一种图像传感器,其特征在于,包括:
半导体衬底;
像素器件,位于所述半导体衬底内;
按行排列的用于PDAF的滤色镜对,位于所述半导体衬底的表面,每行具有多个滤色镜对;
其中,在每个滤色镜对的两个滤色镜中,位置偏向所在行的行中心位置的滤色镜的宽度大于位置远离所在行的行中心位置的滤色镜的宽度;
其中,所述宽度的方向平行于行的延伸方向;
所述图像传感器还包括:
格栅结构,位于所述半导体衬底的表面,且多个所述格栅结构构成网格状且具有网格开口,所述滤色镜对的滤色镜分别位于不同的网格开口内;
其中,所述滤色镜对距离所述行中心位置越远,所述滤色镜对的两个滤色镜之间的格栅结构的中心越远离所述滤色镜对的中心,且远离所述滤色镜对的中心的方向与远离所述行中心位置的方向一致;
所述滤色镜对距离所述行中心位置越远,所述滤色镜对的两个滤色镜之间的格栅结构的宽度越大。
2.根据权利要求1所述的图像传感器,其特征在于,每个滤色镜对的两个滤色镜的宽度的比值是根据入射光线射入所述两个滤色镜的入射角的比值确定的,所述入射光线的点光源位于所述两个滤色镜所在行的行中心位置,且位于所述半导体衬底的法线上。
3.根据权利要求1所述的图像传感器,其特征在于,在每个滤色镜对的两个滤色镜中,位置偏向所在行的行中心位置的滤色镜之间的宽度一致。
4.一种图像传感器的形成方法,其特征在于,包括:
提供半导体衬底;
在半导体衬底内形成像素器件;
在所述半导体衬底的表面形成按行排列的用于PDAF的滤色镜对,每行具有多个滤色镜对;
其中,在每个滤色镜对的两个滤色镜中,位置偏向所在行的行中心位置的滤色镜的宽度大于位置远离所在行的行中心位置的滤色镜的宽度;
其中,所述宽度的方向平行于行的延伸方向;
在所述半导体衬底的表面形成按行排列的用于PDAF的滤色镜对之前,所述图像传感器的形成方法还包括:
在所述半导体衬底的表面形成格栅结构,且多个所述格栅结构构成网格状且具有网格开口,所述滤色镜对的滤色镜分别位于不同的网格开口内;
其中,所述滤色镜对距离所述行中心位置越远,所述滤色镜对的两个滤色镜之间的格栅结构的中心越远离所述滤色镜对的中心,且远离所述滤色镜对的中心的方向与远离所述行中心位置的方向一致;
所述滤色镜对距离所述行中心位置越远,所述滤色镜对的两个滤色镜之间的格栅结构的宽度越大。
5.根据权利要求4所述的图像传感器的形成方法,其特征在于,每个滤色镜对的两个滤色镜的宽度的比值是根据入射光线射入所述两个滤色镜的入射角的比值确定的,所述入射光线的点光源位于所述两个滤色镜所在行的行中心位置,且位于所述半导体衬底的法线上。
6.根据权利要求4所述的图像传感器的形成方法,其特征在于,在每个滤色镜对的两个滤色镜中,位置偏向所在行的行中心位置的滤色镜之间的宽度一致。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的