[发明专利]一种低介电OCA光学胶、光学胶膜及其膜制备方法

权利要求书

1.一种低介电OCA光学胶，其特征在于，包括按重量配比的如下组分：

2.根据权利要求1所述的低介电OCA光学胶，其特征在于，所述硅溶胶选自硅氧烷偶联剂改性的纳米二氧化硅分散液，所述硅溶胶的固含量为30％，纳米二氧化硅平均粒径50nm，硅溶胶的PH值为8。

3.根据权利要求1所述的低介电OCA光学胶，其特征在于，所述树脂选自环氧聚酯类树脂、丙烯酸酯类树脂、聚氨酯类树脂中的一种或多种组合；所述活性稀释剂选自单官能团活性稀释剂、多官能团活性稀释剂、丙烯酸酯类活性稀释剂中的一种或多种组合；所述光引发剂选自酰基膦氧化物、苯乙酮衍生物、苯甲酮及其衍生物、苯甲酰甲酸酯中的一种或多种组合。

4.根据权利要求1所述的低介电OCA光学胶，其特征在于，所述抗氧剂选自抗氧剂1076、抗氧剂168、抗氧剂1010、抗氧剂1089、抗氧剂164、抗氧剂3114中的一种或多种组合。

5.根据权利要求1所述的低介电OCA光学胶，其特征在于，所述交联剂选自三乙烯四胺、甲苯二异氰酸酯、氮丙啶中的一种或多种组合。

6.一种低介电OCA光学胶膜，其特征在于，从上至下依次包括：离型膜、光学胶层及离型膜，所述光学胶层由权利要求1至5任一项所述的低介电OCA光学胶涂布固化而成。

7.根据权利要求6所述的低介电OCA光学胶膜，其特征在于，两层所述离型膜分别为轻离型膜和重离型膜。

8.根据权利要求7所述的低介电OCA光学胶膜，其特征在于，所述轻离型膜的层厚度为25μm-75μm，剥离力为1g/f-25g/f，所述重离型膜的层厚度为75μm-125μm，剥离力为45g/f-90g/f，重离型膜表面电晕处理。

9.根据权利要求6所述的低介电OCA光学胶膜，其特征在于，所述离型膜选自PE离型膜、PET离型膜、OPP离型膜、PC离型膜、PS离型膜、PMMA离型膜及BOPP离型膜中的一种。

10.一种低介电OCA光学胶膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

第一步，提供一重离型膜，使用涂布机将光学胶液体涂布在重离型膜上；

第二步，待光学胶液体扩散均匀后，对光学胶液体进行热固化或紫外光固化，从而形成光学胶层；

第三步，提供一轻离型膜，将其覆盖在固化后的光学胶层上，制得OCA光学胶膜；

其中，所述光学胶液体采用权利要求1至5任一项所述的低介电OCA光学胶。