[发明专利]蒸镀装置

权利要求书

1.一种蒸镀装置，具备：

蒸镀源，其位于真空槽内；

保持机构，其进行使基板的表面朝向所述蒸镀源的状态下的基板的保持和所述蒸镀源与所述基板之间的蒸镀掩模的保持；

电阻加热器，所述基板和所述蒸镀掩模的至少一方是温度的调整对象，该电阻加热器以与所述调整对象热接触的方式对所述调整对象的温度进行调整；以及

温度调整部，其基于所述调整对象的温度来控制向所述电阻加热器供给的电流，

比被搬入到所述真空槽时的所述调整对象的温度高的温度是所述调整对象的目标温度，

所述温度调整部将蒸镀材料从所述蒸镀源放出时的所述目标温度设定成仅通过所述电阻加热器的热量供给和该热量供给的停止而到达的温度，

所述保持机构保持所述电阻加热器，在所述蒸镀材料从所述蒸镀源放出时，使所述基板、所述蒸镀掩模以及所述电阻加热器成为一体地在所述基板的圆周方向旋转，

所述蒸镀装置还具备：

摄像部，其与所述基板的背面对置，对所述蒸镀掩模和所述基板的所述背面进行摄像；以及

定位部，其基于所述摄像部摄像的结果使所述蒸镀掩模的位置和所述基板的位置匹配，

所述定位部基于第1像和第2像的对比度提取的所述平坦部和所述斜面部的边界的形状是全周形状的哪个部位，从而检测所述基板的位置，该第1像基于由所述基板的平坦部反射的光形成，该第2像基于由与所述平坦部相连的斜面部反射的光形成。

2.一种蒸镀装置，具备：

蒸镀源，其位于真空槽内；

保持机构，其进行使基板的表面朝向所述蒸镀源的状态下的基板的保持和所述蒸镀源与所述基板之间的蒸镀掩模的保持；

电阻加热器，所述基板和所述蒸镀掩模的至少一方是温度的调整对象，该电阻加热器以与所述调整对象热接触的方式对所述调整对象的温度进行调整；以及

温度调整部，其基于所述调整对象的温度来控制向所述电阻加热器供给的电流，

比被搬入到所述真空槽时的所述调整对象的温度高的温度是所述调整对象的目标温度，

所述温度调整部将蒸镀材料从所述蒸镀源放出时的所述目标温度设定成仅通过所述电阻加热器的热量供给和该热量供给的停止而到达的温度，

所述调整对象是所述基板，

所述蒸镀装置具备：

摄像部，其与所述基板的背面对置，对所述蒸镀掩模和所述基板的所述背面进行摄像；以及

定位部，其基于所述摄像部摄像的结果使所述蒸镀掩模的位置和所述基板的位置匹配，

所述定位部基于第1像和第2像的对比度提取的所述平坦部和所述斜面部的边界的形状是全周形状的哪个部位，从而检测所述基板的位置，该第1像基于由所述基板的平坦部反射的光形成，该第2像基于由与所述平坦部相连的斜面部反射的光形成。

3.根据权利要求1或2所述的蒸镀装置，其中，

所述调整对象是所述基板，

所述电阻加热器内置于热传导板，该热传导板能与所述基板的背面进行面接触，

所述保持机构保持所述热传导板，在所述蒸镀材料从所述蒸镀源放出时，使所述基板、所述蒸镀掩模以及所述热传导板成为一体地在所述基板的圆周方向旋转。

4.根据权利要求3所述的蒸镀装置，其中，

所述保持机构在所述蒸镀材料从所述蒸镀源放出时，在使所述基板的所述表面和所述蒸镀掩模进行面接触的状态下使所述基板、所述蒸镀掩模以及所述热传导板成为一体地在所述基板的圆周方向旋转。

5.根据权利要求1或2所述的蒸镀装置，其中，

所述蒸镀装置具备：

上部结构体，其连接到所述保持机构；

下部结构体，其支承所述上部结构体；以及

连接部，其被所述下部结构体和所述上部结构体夹着，对所述上部结构体和所述下部结构体进行连接，

所述连接部具备抑制振动从所述下部结构体向所述上部结构体传递的防振功能。