[发明专利]一种室温电沉积制备铝镁镧合金膜的方法有效
| 申请号： | 201811500755.2 | 申请日： | 2018-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN109440150B | 公开（公告）日： | 2021-01-29 |
| 发明（设计）人： | 阚洪敏;孙欣;王晓阳;龙海波;张宁;孟媛媛 | 申请（专利权）人： | 沈阳大学 |
| 主分类号： | C25D3/56 | 分类号： | C25D3/56 |
| 代理公司： | 沈阳技联专利代理有限公司 21205 | 代理人： | 赵越 |
| 地址： | 110044 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 室温 沉积 制备 铝镁镧 合金 方法 | ||
【权利要求书】：
1. 一种室温电沉积制备铝镁镧合金膜的方法，其特征在于，所述方法包括以下制备过程：
镀液的制备
在充满惰性气体的手套箱中，称取无水氯化铝、氢化铝锂、氯化镁和无水氯化镧，其中无水氯化铝、氯化镁和无水氯化镧的摩尔配比为10:1:1，密封好之后从手套箱中取出；在冰浴条件下加入苯和四氢呋喃，苯和四氢呋喃的使用比例为体积比4:1，将其置于磁力搅拌器上冰浴搅拌4小时；
铜基体处理
将铜片依次用400、800和1200目的砂纸打磨光滑，接着进行化学除油，除去铜片表面的油污，再用稀硫酸进行预腐蚀及弱腐蚀除去氧化膜，然后进行水洗，水洗后放入真空干燥箱中干燥，待用；
恒电流电沉积
以铂片做阳极，铜片做阴极，控制电流密度为5-60毫安/平方厘米，进行电沉积1-2小时，即可获得致密且颗粒细小均匀的铝镁镧合金膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳大学，未经沈阳大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811500755.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
