[发明专利]可折叠显示面板及其制作方法和可折叠显示装置在审
申请号: | 201811503161.7 | 申请日: | 2018-12-10 |
公开(公告)号: | CN109659339A | 公开(公告)日: | 2019-04-19 |
发明(设计)人: | 方宏 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L27/12;H01L21/77;G09F9/30 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机绝缘层 可折叠 金属箔层 显示面板 栅极绝缘层 显示装置 衬底 衬底方向 网状结构 依次层叠 有机材料 缓冲层 金属箔 阻挡层 源层 制作 背离 互联 覆盖 | ||
1.一种可折叠显示面板,其包括:一柔性衬底,在所述柔性衬底上沿背离柔性衬底方向依次层叠设置有一阻挡层、一缓冲层、一有源层、一栅极绝缘层和一栅极,其特征在于,在所述栅极绝缘层和栅极上设置有一第一有机绝缘层,所述第一有机绝缘层覆盖所述栅极,在所述第一有机绝缘层上设置一金属箔层,在所述金属箔层上设置一第二有机绝缘层;所述第一有机绝缘层和所述第二有机绝缘层是由有机材料制成;所述金属箔层中的金属箔为交叉互联的网状结构。
2.根据权利要求1所述的可折叠显示面板,其特征在于,在所述第二有机绝缘层、所述金属箔层、所述第一有机绝缘层、所述第二栅极绝缘层和所述第一栅极绝缘层中设置源极和漏极;在所述第二有机绝缘层上设置有一平坦层,在平坦层上设置有一阳极层和像素定义层以及设置在所述像素定义层上的隔离柱。
3.根据权利要求1所述的可折叠显示面板,其特征在于,所述缓冲层包括沿背离柔性衬底方向依次层叠设置的第一缓冲层、第二缓冲层和第三缓冲层,所述第一缓冲层由氮化硅材料制成,第二缓冲层由氧化硅材料制成,第三缓冲层由非晶矽材料制成;所述第一缓冲层的厚度为500埃,所述第二缓冲层的厚度为2000~3000埃,所述第三缓冲层的厚度为400~500埃。
4.根据权利要求1所述的可折叠显示面板,其特征在于,所述栅极绝缘层包括第一栅极绝缘层和第二栅极绝缘层,所述栅极也包括第一栅极和第二栅极;其中所述第一栅极绝缘层、第一栅极、第二栅极绝缘层和所述第二栅极沿背离柔性衬底方向依次层叠设置。
5.根据权利要求4所述的可折叠显示面板,其特征在于,所述第一栅极绝缘层由氧化硅材料制成,所述第一栅极绝缘层的厚度的900~1500埃;所述第二栅极绝缘层由氮化硅材料制成,所述第二栅极绝缘层的厚度的1000~1300埃。
6.一种可折叠显示装置,其特征在于,所述可折叠显示装置包括权利要求1至5任一项所述的可折叠显示面板。
7.一种如权利要求1所述的可折叠显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
(a)提供一柔性衬底;
(b)在柔性衬底上设置一阻挡层;
(c)在所述阻挡层上依次沉积氮化硅层、氧化硅层和非晶硅层,以形成缓冲层;
(d)在所述缓冲层上形成一有源层,并且对所述有源层进行曝光显影、刻蚀和剥膜制程,以图案化所述有源层;
(e)在所述有源层和所述缓冲层上设置一第一栅极绝缘层,所述第一栅极绝缘层覆盖所述有源层,在所述第一栅极绝缘层上沉积一第一金属层,并且对所述第一金属层图案化,以形成第一栅极;
(f)在第一栅极绝缘层和第一栅极上设置一第二栅极绝缘层,所述第二栅极绝缘层覆盖所述第一栅极,在所述第二栅极绝缘层上沉积一第二金属层,并且对所述第二金属层图案化,以形成第二栅极,并构建存储电容;
(g)在所述第二栅极绝缘层和第二栅极上形成一第一有机绝缘层;
(h)在所述第一有机绝缘层上沉积一金属层,并且对所述金属层进行图案化以形成一金属箔层;
(i)在所述金属箔层上形成一第二有机绝缘层。
8.根据权利要求7所述的可折叠显示面板的制作方法,其特征在于,所述方法还包括:在步骤(g)中,采用光罩制程,在所述第一有机绝缘层中形成第一过孔和第二过孔。
9.根据权利要求7所述的可折叠显示面板的制作方法,其特征在于,所述方法还包括:在步骤(i)中,采用光罩制程和刻蚀制程,在所述第二有机绝缘层、所述金属箔层、所述第一有机绝缘层、所述第一栅极绝缘层和第二栅极绝缘层内形成第三过孔和第四过孔,所述第三过孔和所述第四过孔的位置分别与所述第一过孔和所述第二过孔的位置相对应。
10.根据权利要求9所述的可折叠显示面板的制作方法,其特征在于,所述方法还包括:在步骤(i)之后包括以下步骤:
(i1)在所述第三过孔和所述第四过孔内填充金属材料,以分别形成源极和漏极;
(i2)在所述第二有机绝缘层上涂覆树脂以形成一平坦层,并且在所述平坦层上形成一阳极层和像素定义层,并且对阳极层进行图案化;
(i3)对所述像素定义层进行开孔,以及在所述像素定义层设置隔离柱。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的