[发明专利]一种用于光学塑料表面高强度嵌入式减反膜制备方法

权利要求书

1.一种用于光学塑料表面高强度嵌入式减反膜制备方法，其特征在于，具体包括以下步骤：

（1）清洁环境下，将光学塑料基底材料进行冲洗吹扫，得到洁净的光学塑料基底材料；

（2）清洁环境下，将步骤（1）中得到的洁净的光学塑料基底材料表面镀制均匀的减反膜，得到镀制了减反膜的光学塑料，所述减反膜材料是由溶胶-凝胶法制备的二氧化硅溶胶；

（3）将挥发性有机溶剂置于恒温密闭环境中备用；

（4）将步骤（2）制得的镀制了减反膜的光学塑料放入步骤（3）的密闭环境中进行反应，即完成制备；

步骤（2）中：所述减反膜的膜层材料具有纳米多孔结构，且不会在步骤（3）的挥发性有机溶剂中发生溶解、变形或膨胀作用；

所述二氧化硅溶胶的制备过程为：将正硅酸四乙酯、无水乙醇、氨水按照摩尔比1:40:2在温度25℃，相对湿度低于60%的环境下充分搅拌2小时，静置老化7天后得到淡蓝色乳胶状氧化硅溶胶，之后在80℃下回流24小时除去氨气，得到稳定的二氧化硅溶胶；

步骤（3）中：所述挥发性有机溶剂为二氯甲烷、三氯甲烷、丙酮、四氢呋喃、甲苯中的一种，当挥发性有机溶剂为三氯甲烷时，气氛处理反应在黑暗环境下进行。

2.根据权利要求1所述的一种用于光学塑料表面高强度嵌入式减反膜制备方法，其特征在于，步骤（1）中：所述光学塑料基底材料为聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、苯乙烯丙烯腈、苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物、聚4-甲基-1-戊烯、聚苯乙烯中的一种。

3.根据权利要求1所述的一种用于光学塑料表面高强度嵌入式减反膜制备方法，其特征在于，步骤（1）和（2）中所述清洁环境的相对湿度小于50%。

4.根据权利要求1所述的一种用于光学塑料表面高强度嵌入式减反膜制备方法，其特征在于，步骤（1）中所述冲洗吹扫的步骤为：用无水乙醇冲洗基底材料表面5-10s，以干净的无纺布擦拭并用氮气吹去表面残余的乙醇残留液。

5.根据权利要求1所述的一种用于光学塑料表面高强度嵌入式减反膜制备方法，其特征在于，步骤（3）的具体步骤为：将含有挥发性有机溶剂的培养皿放入密闭的恒温箱中，挥发反应0.5-1h备用。

6.根据权利要求1所述的一种用于光学塑料表面高强度嵌入式减反膜制备方法，其特征在于，步骤（4）中：将镀制了减反膜的光学塑料置于距离溶剂液面正上方4-10cm处。

7.根据权利要求1所述的一种用于光学塑料表面高强度嵌入式减反膜制备方法，其特征在于，步骤（4）中：反应时间为1-10h。