[发明专利]一种光场相机的盲标定方法有效
申请号: | 201811510810.6 | 申请日: | 2018-12-11 |
公开(公告)号: | CN109708612B | 公开(公告)日: | 2020-12-18 |
发明(设计)人: | 金欣;孙绪福;戴琼海 | 申请(专利权)人: | 清华大学深圳研究生院 |
主分类号: | G01C3/00 | 分类号: | G01C3/00;G06T7/80 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 方艳平 |
地址: | 518055 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 相机 标定 方法 | ||
1.一种光场相机的盲标定方法,其特征在于,包括以下步骤:
A1:在主透镜与传感器之间插入微透镜阵列以搭建初始的光场相机2.0结构,并分别测量所述主透镜和所述微透镜阵列分别与测量起始面的初始距离,在搭建初始的光场相机2.0结构时,使得所述主透镜与所述传感器之间的距离满足下式:
其中,u是物体到所述主透镜的距离,v是所述主透镜与所述传感器之间的距离,F是所述主透镜的焦距;
A2:固定所述传感器以及所述微透镜阵列的位置,向远离所述微透镜阵列的方向移动所述主透镜,并实时记录所述传感器采集的图像;
A3:根据光场相机1.0结构的成像原理,测量依照光场相机1.0结构清晰成像时所述主透镜和所述微透镜阵列与所述测量起始面之间的距离;
A4:根据所述主透镜和所述微透镜阵列分别与测量起始面的初始距离、以及步骤A3得到的依照光场相机1.0结构清晰成像时所述主透镜与所述测量起始面之间的距离,建立光场相机2.0结构的盲标定模型,计算得到所述微透镜阵列的结构参数,并对光场相机2.0结构进行标定处理;建立的光场相机2.0结构的盲标定模型中的所述微透镜阵列到所述主透镜之间的距离v为:
v=|d3-d4|
所述微透镜阵列到所述传感器之间的距离b为:
b=|d3-d4|-|d1-d2|
其中,d1为步骤A1测量得到的所述主透镜与所述测量起始面的初始距离,d2为步骤A1测量得到的所述微透镜阵列与所述测量起始面的初始距离,d3为步骤A3测量得到的依照光场相机1.0结构清晰成像时所述主透镜与所述测量起始面之间的距离,d4为步骤A3测量得到的依照光场相机1.0结构清晰成像时所述微透镜阵列与所述测量起始面之间的距离。
2.根据权利要求1所述的光场相机的盲标定方法,其特征在于,步骤A3还包括:重复步骤A2和步骤A3中的测量步骤,直至相邻的至少两次测量得到的所述主透镜与所述测量起始面之间的距离的误差在预设范围内。
3.根据权利要求1所述的光场相机的盲标定方法,其特征在于,步骤A3中的测量步骤还包括测量依照光场相机1.0结构清晰成像时所述微透镜阵列与所述测量起始面之间的距离。
4.根据权利要求3所述的光场相机的盲标定方法,其特征在于,步骤A3还包括:重复步骤A2和步骤A3中的测量步骤,直至相邻的至少两次测量得到的所述主透镜与所述测量起始面之间的距离和所述微透镜阵列与所述测量起始面之间的距离之差的绝对值的误差在预设范围内。
5.根据权利要求2或4所述的光场相机的盲标定方法,其特征在于,其中误差的预测范围为不大于0.01mm。
6.根据权利要求3所述的光场相机的盲标定方法,其特征在于,步骤A4中建立光场相机2.0结构的盲标定模型还包括根据步骤A3得到的依照光场相机1.0结构清晰成像时所述微透镜阵列与所述测量起始面之间的距离。
7.根据权利要求6所述的光场相机的盲标定方法,其特征在于,步骤A4中计算得到所述微透镜阵列的结构参数包括计算得到所述微透镜阵列到所述主透镜之间的距离以及所述微透镜阵列到所述传感器之间的距离。
8.根据权利要求1所述的光场相机的盲标定方法,其特征在于,步骤A4中对光场相机2.0结构进行标定处理包括:通过光场成像模型获取主透镜的成像面与微透镜阵列的位置关系,从而得出光场相机2.0结构下预期成像效果时主透镜的位置。
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