[发明专利]一种氧化锆陶瓷表面镀覆的二氧化锆纳米管薄膜涂层及其制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 201811520056.4 申请日: 2018-12-12
公开(公告)号: CN109485459B 公开(公告)日: 2023-09-05
发明(设计)人: 王辰;张耿民;许亦权;梁莉;陈燕辉;韩雪;杨楠 申请(专利权)人: 中国人民解放军总医院第八医学中心
主分类号: A61K6/818 分类号: A61K6/818;C04B41/87
代理公司: 北京虹泽知识产权代理事务所(普通合伙) 16008 代理人: 蒋尊龙
地址: 100091 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 氧化锆 陶瓷 表面 镀覆 纳米 薄膜 涂层 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种氧化锆陶瓷表面镀覆的二氧化锆纳米管薄膜涂层,其特征在于,所述薄膜涂层包括锆微米膜和ZrO2纳米管层,锆微米膜位于所述氧化锆陶瓷与ZrO2纳米管层之间,分别与氧化锆陶瓷和ZrO2纳米管层接合,用于连接氧化锆陶瓷和ZrO2纳米管层;所述ZrO2纳米管层是由ZrO2纳米管以阵列形式排列在锆微米膜上形成;

所述薄膜涂层中二氧化锆呈四方晶相和单斜晶相;

所述薄膜涂层是以金属锆作为离子镀膜靶材,先经离子镀膜法在氧化锆陶瓷表面镀以锆膜,再以NH4F、水和乙二醇配制电解液,分别以镀锆膜的氧化锆陶瓷和石墨为阳极和阴极,通过阳极氧化法将氧化锆陶瓷表面的锆膜部分氧化为ZrO2纳米管层,未被氧化的锆膜作为锆微米膜和ZrO2纳米管层共同形成所述氧化锆纳米管薄膜涂层;

所述离子镀膜法具体为:氧化锆陶瓷经荡洗、烘干后,利用真空镀膜机,以金属锆作为离子镀膜靶材,在氧化锆陶瓷表面镀上锆膜,得到镀有锆膜的氧化锆陶瓷;

所述离子镀膜参数为本底真空2×10-3Pa,镀膜温度200℃,工作气体为Ar气,工作气体气压为0.8Pa,加载电压电流为21V、80A,连续镀膜1-4小时;

所述薄膜涂层厚度为500nm-2.5μm;

所述阳极氧化法具体为:将镀有锆膜的氧化锆陶瓷作为阳极,石墨作为阴极,浸没在电解液中,在阴阳电极间加载30-50V恒定直流电压,反应10-20min,将锆膜部分氧化为ZrO2纳米管层;

所述电解液是将NH4F溶于水配成0.1-0.5wt%的水溶液,然后加入乙二醇,使得所述水溶液在乙二醇中的体积百分含量为1vol%,搅拌后得到。

2.根据权利要求1所述氧化锆陶瓷表面镀覆的二氧化锆纳米管薄膜涂层,其特征在于,所述ZrO2纳米管管径为50-700nm。

3.一种氧化锆陶瓷修复材料,其特征在于,在所述氧化锆陶瓷表面镀覆有权利要求1-2任一所述氧化锆纳米管薄膜涂层。

4.一种氧化锆陶瓷牙科冠桥修复体,包括由氧化锆陶瓷制成的牙冠状冠桥修复体本体,其特征在于,在所述牙冠状冠桥修复体本体内侧的氧化锆陶瓷表面镀覆有权利要求1-2任一所述氧化锆纳米管薄膜涂层。

5.权利要求3所述氧化锆陶瓷修复材料在制备氧化锆陶瓷牙科冠桥修复体中的应用。

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