[发明专利]一种适用于低密度种植作物的局部根区土壤改良栽培方法

权利要求书

1.一种适用于低密度种植作物的局部根区土壤改良栽培方法，

其特征在于，具体包括如下步骤：

步骤1：根据目标作物根系范围参数以及种植株距确定栽培方式；

步骤2：将幼苗定植入塘或沟里，然后覆盖1-2cm厚的薄土；

步骤3：在薄土层上通过环形或条状施肥的方法施入土壤改良剂；

步骤4：在土壤改良剂上进行覆土层，土壤覆盖至距离沟面或塘面3-5cm将覆土层与土壤改良剂均匀混合；

步骤5：在作物生长管理中，根据作物的生长情况，适时培土。

2.根据权利要求1所述的一种适用于低密度种植作物的局部根区土壤改良栽培方法，其特征在于：在步骤1中，根据目标作物适合大行距栽培的作物，即行距大于1m的低密度种植作物。

3.根据权利要求1所述的一种适用于低密度种植作物的局部根区土壤改良栽培方法，其特征在于：在步骤1中，所述目标作物生长到成熟期时的根系覆盖的长、宽以及深度来确定目标作物最佳种植株距。

4.根据权利要求1所述的一种适用于低密度种植作物的局部根区土壤改良栽培方法，其特征在于：在步骤1中，所述选择栽培方式为开沟或挖塘定植的一种。

5.根据权利要求3所述的一种适用于低密度种植作物的局部根区土壤改良栽培方法，其特征在于：当种植株距大于50cm，则挖塘定植；当植物株距小于50cm，则开沟定植。

6.根据权利要求5所述的一种适用于低密度种植作物的局部根区土壤改良栽培方法，其特征在于：若侧根太长，沟或塘的宽度应根据根系生长范围确定一个适当的尺寸，一般情况下不超过1m。

7.根据权利要求1所述的一种适用于低密度种植作物的局部根区土壤改良栽培方法，其特征在于：在步骤2中，所述薄土层厚度为1-2cm，以覆盖作物根系，作物根系不裸露为佳。

8.根据权利要求1所述的一种适用于低密度种植作物的局部根区土壤改良栽培方法，其特征在于：在步骤3中，所述土壤改良剂主要用于改良土壤的物理、化学和生物性状，使其适宜作物生长，但不主要提供作物养分的物料。