[发明专利]阵列基板修复工艺、阵列基板以及显示面板在审
申请号: | 201811521482.X | 申请日: | 2018-12-12 |
公开(公告)号: | CN109491163A | 公开(公告)日: | 2019-03-19 |
发明(设计)人: | 单剑锋 | 申请(专利权)人: | 惠科股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362 |
代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人: | 胡海国 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阵列基板 金属线 氧化锡 断线位置 修补 彩膜基板 绝缘材料 显示面板 修复工艺 线接触 涂覆 申请 按压 隔离 位置处 短路 检测 | ||
1.一种阵列基板修复工艺,其特征在于,所述阵列基板修复工艺包括以下步骤:
检测阵列基板上的氧化锡线;
在检测到阵列基板上的氧化锡线有断线位置时,采用金属线修补所述断线位置;
在所述断线位置上涂覆绝缘材料,以将修补的金属线包裹隔离。
2.如权利要求1所述的阵列基板修复工艺,其特征在于,所述在所述断线位置上涂覆绝缘材料的步骤包括:
采用彩色光阻涂布所述断线位置。
3.如权利要求2所述的阵列基板修复工艺,其特征在于,所述采用彩色光阻涂布所述断线位置的步骤之后,还包括:
将阵列基板放到真空装置中进行真空干燥。
4.如权利要求3所述的阵列基板修复工艺,其特征在于,所述在所述断线位置涂覆彩色光阻,以将修补的金属线包裹隔离的步骤之后,还包括:
对所述阵列基板上的彩色光阻进行烘烤。
5.如权利要求4所述的阵列基板修复工艺,其特征在于,所述对所述阵列基板上的彩色光阻进行烘烤的步骤之前,还包括:
对经过真空干燥的阵列基板进行预烘烤与冷却。
6.如权利要求1-5任意一项所述的阵列基板修复工艺,其特征在于,所述采用金属线修补所述断线位置的步骤之后,在所述断线位置上涂覆绝缘材料的步骤之前,还包括:
清洗所述阵列基板。
7.一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括基板本体以及设置在基板上的氧化锡膜,所述氧化锡膜的断线位置连接有金属线,所述金属线上涂覆有绝缘层。
8.如权利要求7所述的阵列基板,其特征在于,所述绝缘层为彩色光阻层。
9.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括彩膜基板以及如权利要求7或8任意一项所述的阵列基板,所述彩膜基板与所述阵列基板通过单元制程组成盒,并按压形成所述显示面板。
10.如权利要求9所述的显示面板,其特征在于,所述彩膜基板与所述阵列基板组盒时,所述阵列基板上的金属线与所述彩膜基板之间间隔所述绝缘层。
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