[发明专利]一种可再生栽培基质的制备方法和附生类植物的栽培方法

权利要求书

1.一种可再生栽培基质的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

在栽培容器底部铺设无机基质层；

在所述无机基质层上铺设包括湿润泥炭藓和无机基质的混合基质层；

在所述混合基质层上铺设活苔藓层，制得可再生栽培基质。

2.一种附生类植物的栽培方法，其特征在于，包括如下步骤：

采用权利要求1所述的方法制备可再生栽培基质；

将附生类植物种入所述可再生栽培基质的混合基质层中。

3.一种附生类植物的栽培方法，其特征在于，包括如下步骤：

在栽培容器底部铺设无机基质层；

在所述无机基质层上铺设包括湿润泥炭藓和无机基质的混合基质层；

将附生类植物种入所述混合基质层中；

在种有所述附生类植物的混合基质层上铺设活苔藓层。

4.根据权利要求1至3任一所述的方法，其特征在于，所述无机基质层中的无机基质选自砂石、碎陶瓷和陶粒中的至少一种，优选为陶粒；

优选地，所述无机基质的粒径为0.2-0.8cm，更优选为0.5cm；

优选地，所述无机基质层的铺设厚度为1-2cm，更优选为1-1.5cm。

5.根据权利要求1至3任一所述的方法，其特征在于，所述混合基质层中湿润泥炭藓与无机基质的体积比为2-4:1，优选为3:1；

优选地，所述湿润泥炭藓的长度为2-5cm，优选为3-4cm；

优选地，所述混合基质层的铺设厚度为6-10cm,优选为8cm。

6.根据权利要求1至3任一所述的方法，其特征在于，所述活苔藓层中的活苔藓选自砂藓、墙藓和大灰藓中的至少一种，优选为大灰藓；

优选地，所述活苔藓的长度为2-4cm，优选为3cm；

优选地，所述活苔藓层的铺设高度为与所述栽培容器的开口平齐，

优选地，所述活苔藓层的铺设厚度为2-4cm，优选为3cm。

7.根据权利要求1至3任一所述的方法，其特征在于，所述湿润泥炭藓是通过将干燥泥炭藓吸水后挤干至不滴水制得的。

8.根据权利要求1至3任一所述的方法，其特征在于，还包括：向所述混合基质层中添加缓释肥，所述缓释肥的添加量为每升栽培基质使用缓释肥2-4克，进一步优选为3g；

优选地，待附生类植物种入所述混合基质层后，在附生类植物根系周围添加缓释肥。

9.根据权利要求1至3任一所述的方法，其特征在于，还包括：向所述活苔藓层喷洒植物栽培用EM菌；

优选地，所述植物栽培用EM菌的浓度为0.01％-0.05％，更优选为0.02％；

优选地，所述植物栽培用EM菌的喷洒量为每四升湿润栽培基质喷洒EM菌稀释液0.8-1.2L，进一步优选为1L。

10.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，还包括：向活苔藓层和附生类植物定期喷水，使活苔藓层中的活苔藓和附生类植物保持湿润并生长；

优选地，所述定期喷水为每1-4天喷水一次。