[发明专利]研究磁场对DNA二维折纸结构稳定性影响的方法在审
申请号: | 201811525249.9 | 申请日: | 2018-12-13 |
公开(公告)号: | CN109490579A | 公开(公告)日: | 2019-03-19 |
发明(设计)人: | 何丹农;王萍;陈益;张欣;金彩虹 | 申请(专利权)人: | 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 |
主分类号: | G01Q60/24 | 分类号: | G01Q60/24;G01Q60/00;G01Q30/20;G01N21/64;C12Q1/68 |
代理公司: | 上海东亚专利商标代理有限公司 31208 | 代理人: | 董梅 |
地址: | 201109 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁场 二维 结构稳定性 双链 折纸 扫描探针显微镜 荧光分光光度计 形貌 平面材料 情况分析 形貌结构 荧光分析 荧光分子 荧光染料 灵敏度 可插入 移植性 云母片 构建 观察 键合 研究 清晰 分析 | ||
1.一种研究磁场对DNA二维折纸结构稳定性影响的方法,以DNA二维折纸结构为基材,其特征在于改变DNA二维折纸结构所处的磁场强弱并维持一定时间,然后结合原子力显微镜和荧光分光光度计来分析其形貌变化和双链之间键合情况,包括以下步骤:
(1)环境磁场强度的改变
环境磁场的改变设计:将含有DNA二维折纸结构溶液置于强磁场实验装置(SHMFF)中进行磁化处理,改变该DNA二维折纸结构溶液所处位置的磁场强度形成磁场梯度变化并维持0.5h-70h,其中,磁场强度为0T-27T,梯度为0T/m-180T/m;
(2)对于DNA二维折纸形貌观察
用云母片构建界面,取3μL磁场处理后的DNA二维折纸结构溶液滴加到新剥离的云母片上沉积3 min,用超纯水冲洗掉界面上的盐分,氮气吹干最后置于大气下扫描探针显微镜下观察;
(3)折纸结构荧光信号观察
取18 μL 磁场处理后的DNA二维折纸结构溶液,向其中加入77 μL 1×TAE Mg2+溶液,再加入至少5 μL荧光染料混合均匀后转移到微量比色皿中,置于荧光分光光度计下观察。
2.如权利要求1所述研究磁场对DNA二维折纸结构稳定性影响的方法,其特征在于,所述DNA三角形折纸的合成按下述步骤:
将208根订书钉链等量地溶解到超纯水中,使每条链的最终浓度为200 nM,将M13mp18单链DNA(100 nM)与混好的短链(200 nM)以摩尔浓度比1:10的比例混合在1xTAE-Mg2+溶液中,其中M13mp18 单链DNA的最终浓度为5 nM,短链最终浓度为50 nM,将混合后的溶液放入PCR仪中,设定反应程度从95 ℃缓慢降温至4 ℃,降温速率为0.2 ℃/10s,其中,1xTAE-Mg2+溶液的成分为:40 mM三(羟甲基)氨基甲烷(Tris),20 mM 醋酸(Acetic Acid),2 mM乙二胺四乙酸(EDTA),12.5 mM醋酸镁(Magnesium acetate),pH 8.0。
3.如权利要求2所述研究磁场对DNA二维折纸结构稳定性影响的方法,其特征在于,所述长链为M13噬菌体单链,7249 bp;所用订书钉链的序列为DNA三角折纸序列。
4.如权利要求1所述研究磁场对DNA二维折纸结构稳定性影响的方法,其特征在于,通过改变仪器设定来改变DNA折纸结构所处的磁场强度,将浓度为1nM的DNA二维折纸结构的溶液置入不同梯度的磁场环境下并维持30 min。
5.如权利要求1所述研究磁场对DNA二维折纸结构稳定性影响的方法,其特征在于,步骤(3)中,所用荧光染料为Eva Green染料。
6.如权利要求1或4所述研究磁场对DNA二维折纸结构稳定性影响的方法,其特征在于,改变折纸溶液所处位置的磁场强度,磁场强度为15T-27T,梯度为45T/m-180T/m。
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