[发明专利]一种辐照腔中效应物内部场强的局部聚焦装置的构建方法有效
申请号: | 201811527813.0 | 申请日: | 2018-12-13 |
公开(公告)号: | CN109701162B | 公开(公告)日: | 2021-02-12 |
发明(设计)人: | 胡龙;陈昌华;杜太焦;蔡利兵;郑奎松;朱湘琴;潘亚峰 | 申请(专利权)人: | 西北核技术研究所 |
主分类号: | G01R29/08 | 分类号: | G01R29/08 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 胡乐 |
地址: | 710024 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 辐照 效应 内部 场强 局部 聚焦 装置 构建 方法 | ||
1.一种辐照腔中效应物内部场强的局部聚焦装置的构建方法,包括以下步骤:
1)建立介质透镜模型
根据辐照腔和效应物的尺寸,在辐照腔内设置上、下两个双曲透镜,分别记为上凸透镜、下凸透镜,使其分别相应与上、下两个平行极板贴合;每个双曲透镜自身以y轴中心对称,并沿y轴向辐照腔工作空间中心凸起;效应物的局部聚焦位置沿y轴靠近上、下两个双曲透镜任一的凸起顶点,距离不超过30mm;具体按照以下过程确定介质透镜模型;
设坐标原点位于辐照腔工作空间的中心位置,x、y及z方向分别为工作空间的长度、高度及宽度方向,对于紧贴辐照腔工作空间上平行板的上凸透镜,设其凸起顶点处的坐标为(0,y0,0),f为透镜焦点到双曲面的单凸透镜顶点的距离,则xOz平面上构成透镜的双曲线上的点(x,y,0)与透镜的折射率n之间的关系为
在确定f后,根据(1)式,确定透镜的折射率n,进而得到介质透镜的相对介电常数εr=n2;
另一方面,将(1)式改写为双曲线的表达式
式(2)中,a、b分别为双曲线实轴和虚轴的一半,且
对于确定的n和f,上凸透镜在xOz平面上的双曲线的实轴和虚轴的一半是确定的,根据(2)式,画出xOz平面上双曲线的一个分支;
将所述双曲线的一个分支绕着其实轴旋转360°,即得上凸透镜;
将上凸透镜关于y=0的平面作对称操作,即得下凸透镜;
2)确定最优透镜介质
介质透镜模型确定后,多次改变介质透镜相对介电常数εr的值,进行扫描计算,得出相对介电常数εr的最优解;
3)选取适宜介质匹配模型
根据相对介电常数εr的最优解,选取最接近的透镜材料制作上、下两个双曲透镜,按照步骤1)构建实际的装置。
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