[发明专利]研磨装置及研磨方法在审
| 申请号： | 201811528760.4 | 申请日： | 2018-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN109940504A | 公开（公告）日： | 2019-06-28 |
| 发明（设计）人： | 山本雄士;藤井庆太郎 | 申请（专利权）人： | 松下知识产权经营株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;B24B37/34;B24B57/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 刘文海 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 被研磨物 研磨单元 研磨 研磨装置 旧液 浆料喷嘴 新液 金属 回收 回收机构 连续研磨 上游 削减 | ||
1.一种研磨装置，其从上游向下游输送在表面具有金属的片状的被研磨物，并且对所述被研磨物的所述表面的金属进行连续研磨，其中，所述研磨装置具有：
第一研磨单元，其在上游侧进行所述被研磨物的研磨；
第二研磨单元，其在下游侧进行所述被研磨物的研磨；
新液浆料喷嘴，其向所述第二研磨单元供给CMP研磨浆料的新液；
回收机构，其回收在所述第二研磨单元的研磨中使用的所述CMP研磨浆料的旧液；以及
旧液浆料喷嘴，其向所述第一研磨单元供给所回收的所述CMP研磨浆料的旧液。
2.根据权利要求1所述的研磨装置，其中，
所述研磨装置还具有：
浓度测定单元，其测定所回收的所述CMP研磨浆料的旧液的过氧化氢浓度；以及
浓度调整单元，其将所述CMP研磨浆料的旧液的过氧化氢浓度调整为规定的浓度。
3.根据权利要求2所述的研磨装置，其中，
过氧化氢的所述规定的浓度为0.5wt％以上且0.82wt％以下。
4.根据权利要求3所述的研磨装置，其中，
所述研磨装置还具有：
金属离子测定单元，其测定所回收的所述CMP研磨浆料的旧液中的构成所述金属的金属离子成分；以及
废弃机构，其在所述CMP研磨浆料的旧液的所述金属离子成分超过300g/L的情况下，废弃所回收的所述CMP研磨浆料的旧液。
5.根据权利要求4所述的研磨装置，其中，
所述金属由铜构成。
6.一种研磨方法，其中，
所述研磨方法使用权利要求1～5中的任一项所述的研磨装置进行被研磨物的研磨。
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