[发明专利]偏振光板及其制造方法以及光学设备有效
申请号: | 201811531052.6 | 申请日: | 2018-12-14 |
公开(公告)号: | CN109975910B | 公开(公告)日: | 2022-02-18 |
发明(设计)人: | 武田吐梦 | 申请(专利权)人: | 迪睿合株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02F1/1335 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李啸;闫小龙 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 偏振 光板 及其 制造 方法 以及 光学 设备 | ||
1.一种具有线栅构造的偏振光板,具备:
透明基板;以及
格子状凸部,在所述透明基板上以比使用波段的光波长更短的间距排列,并沿既定方向延伸,
所述格子状凸部从所述透明基板侧依次具有反射层、第1电介质层、和吸收层,
当从所述既定方向观看时,所述反射层和所述第1电介质层具有大致相同的宽度,且,所述吸收层的最大宽度与所述反射层及所述第1电介质层的最大宽度大致相同,所述吸收层的最小宽度小于所述反射层及所述第1电介质层的最小宽度,
仅在所述吸收层的与所述第1电介质层相反的表面具有第2电介质层,
当从所述既定方向观看时,所述吸收层的最小宽度小于所述第2电介质层的最小宽度。
2.如权利要求1所述的偏振光板,其中,
当从所述既定方向观看时,所述反射层为大致矩形。
3.如权利要求1至2中任一项所述的偏振光板,其中,
当从所述既定方向观看时,所述第1电介质层为大致矩形。
4.如权利要求1至3中任一项所述的偏振光板,其中,
所述透明基板对于使用波段的光波长透明,且由玻璃、石英、或蓝宝石构成。
5.如权利要求1至4中任一项所述的偏振光板,其中,
所述反射层由铝或铝合金构成。
6.如权利要求1至5中任一项所述的偏振光板,其中,
所述第1电介质层由Si氧化物构成。
7.如权利要求1至6中任一项所述的偏振光板,其中,
所述第2电介质层由Si氧化物构成。
8.如权利要求1至7中任一项所述的偏振光板,其中,
所述吸收层包含Fe或Ta,并且包含Si而构成。
9.如权利要求1至8中任一项所述的偏振光板,其中,
光入射的所述偏振光板的表面,被由电介质构成的保护膜覆盖。
10.如权利要求1至9中任一项所述的偏振光板,其中,
光入射的所述偏振光板的表面,被有机类憎水膜覆盖。
11.一种具有线栅构造的偏振光板的制造方法,包括:
在透明基板的单面形成反射层的反射层形成工序;
在所述反射层的与所述透明基板相反面形成第1电介质层的第1电介质层形成工序;
在所述第1电介质层的与所述反射层相反面形成吸收层的吸收层形成工序;以及
通过对所形成的层叠体进行选择性蚀刻,形成在透明基板上以比使用波段的光波长更短的间距排列的格子状凸部的蚀刻工序,
在所述蚀刻工序中,通过组合各向同性蚀刻和各向异性蚀刻,来使所述反射层和所述第1电介质层为大致相同的宽度,使所述吸收层的最大宽度与所述反射层及所述第1电介质层的最大宽度大致相同且使所述吸收层的最小宽度小于所述反射层及所述第1电介质层的最小宽度,
仅在所述吸收层的与所述第1电介质层相反的表面形成第2电介质层,当从既定方向观看时,所述吸收层的最小宽度小于所述第2电介质层的最小宽度。
12.一种光学设备,具备权利要求1至11中任一项所述的偏振光板。
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