[发明专利]一种超短焦抗光结构的制作方法

说明书

本发明涉及短焦投影技术领域，提供了一种超短焦抗光结构的制作方法，包括在基板上模压出的光学微结构的表面上均匀沉积金属材料形成反射层；在反射层上均匀覆盖光阻材料；选定区域进行曝光；显影去除被曝光的光阻材料，露出所述区域内的反射层；刻蚀掉露出的反射层上的金属材料，形成抗光侧；去除剩余的光阻材料，露出反射层，得所述抗光结构。借此，本发明通过在光学微结构上均匀沉积金属材料，再在金属材料上覆盖光阻材料；之后对选定区域内的光阻材料进行曝光、显影，再去除掉露出的金属材料，形成抗光侧；最后去除剩余的光阻材料形成反射层。获得了特定分布的反射层结构，避免了现有技术的缺陷，得到了高品质的抗光结构。

技术领域

本发明涉及短焦投影技术领域，尤其涉及一种超短焦抗光结构的制作方法。

背景技术

目前，超短焦正投幕已广泛用作家庭影院的屏幕。类似于图1中的结构，为降低环境光对使用效果的影响，通常在光学纹理面上朝投影机方向的一侧为反射层3，另一侧为抗光侧21，用于吸收环境光，从而实现抗光的目的。

目前，制作该结构的方法为：先在基板1上采用模压方式制作一层光学微结构2；然后再在微结构的预定区域上覆盖一层金属材料形成反射层3，另一侧不覆盖形成抗光侧21。目前，覆盖金属材料方法是印刷、喷涂或蒸镀等方式。但是现有的方法均存在缺陷，如在需要制作反射层3一侧出现金属材料覆盖不完全，致使部分投影光穿过微结构被吸收，导致光能利用率降低；或抗光侧21覆盖上了金属材料，致使部分环境光反射到屏幕前方，从而降低了色彩饱和度和黑白对比度。因此，采用现有技术无法获得特定分布的反射层3，因此也就无法制得高品质的抗光结构。

综上可知，现有技术在实际使用上显然存在不便与缺陷，所以有必要加以改进。

发明内容

针对上述的缺陷，本发明的目的在于提供一种超短焦抗光结构的制作方法，通过在光学微结构上均匀沉积金属材料，再在金属材料上覆盖光阻材料；之后对选定区域内的光阻材料进行曝光、显影，再去除掉露出的金属材料，形成抗光侧；最后去除剩余的光阻材料形成反射层。通过本发明的方法获得了特定分布的反射层结构，避免了现有技术的缺陷，得到了高品质的抗光结构。

为了实现上述目的，本发明提供一种超短焦抗光结构的制作方法，包括如下步骤：

第一步，在基板上模压出的光学微结构的表面上均匀沉积金属材料形成反射层；

第二步，在反射层上均匀覆盖光阻材料；

第三步，使用照射光对选定区域进行曝光；

第四步，显影去除选定区域内被曝光的光阻材料，露出所述区域内的反射层；

第五步，刻蚀掉露出的反射层上的金属材料，形成抗光侧；

第六步，去除剩余的光阻材料，露出反射层，得所述抗光结构。

根据本发明的超短焦抗光结构的制作方法，所述第一步中沉积金属材料的方法为蒸镀、磁控溅射或化学镀。

根据本发明的超短焦抗光结构的制作方法，所述反射层的厚度不大于5μm。

根据本发明的超短焦抗光结构的制作方法，所述反射层的厚度为0.1-5μm。

根据本发明的超短焦抗光结构的制作方法，所述金属材料为银、铝或镍。

根据本发明的超短焦抗光结构的制作方法，所述第三步中使用掩膜版使照射光选择性的透过并照射到选定区域。

根据本发明的超短焦抗光结构的制作方法，所述掩膜版设有交叉的透光区和遮光区，照射光从透光区照下对选定区域曝光。

根据本发明的超短焦抗光结构的制作方法，所述光阻材料和照射光分别为UV胶和紫外光。

根据发明的超短焦抗光结构的制作方法制得的超短焦抗光结构。