[发明专利]带光催化剂的基材及其制造方法以及光催化装置

说明书

本发明的实施方式涉及带光催化剂的基材及其制造方法以及光催化装置。本发明可得到能简便地制作且难以剥离的带光催化剂的基材。实施方式的带光催化剂的基材包含：基材；基底层，所述基底层设置在基材上，在pH6的水中具有正的Zeta电位；和光催化剂层，所述光催化剂层设置在基底层上，含有具有负的Zeta电位的光催化剂材料。

本申请以日本专利申请特愿2017-239740(申请日：12/14/2017)为基础，从该申请享受优先的利益。本申请通过参照该申请，包含该申请的全部内容。

技术领域

本发明的实施方式涉及带光催化剂的基材及其制造方法以及光催化装置。

背景技术

光催化剂产生由光激发的空穴，具有强的氧化能力。该氧化能力用于有害有机分子的分解除去、杀菌、基材的亲水性维持等。作为担载有这样的光催化剂的基材，例如有将使氧化钛粒子和热塑性树脂分散于有机溶剂中而得到的液体涂布于基材并干燥，形成含有氧化钛的被膜的方法。另外，就通过粘合剂树脂将光催化剂固定于基材上而成的光催化剂加工体而言，有如下方法：通过涂布粘合剂树脂，在所涂布的树脂具有粘合性的期间散布光催化剂粉末，从而将光催化剂固定在基材上。

但是，在这些基材中，含有氧化钛的被膜中，粘合剂树脂容易包裹光催化剂粒子，光催化剂粒子无法与外部环境接触，光催化活性容易被阻碍。另外，就散布有光催化剂粉末的粘合剂树脂而言，光催化剂粒子容易脱离。

发明内容

本发明的实施方式的目的在于提供一种具有充分的光催化活性、难以剥离的带光催化剂的基材。

实施方式的带光催化剂的基材包含：基材；基底层，所述基底层设置在所述基材上，在pH6的水中具有正的Zeta电位；和光催化剂层，所述光催化剂层设置在所述基底层上，含有具有负的Zeta电位的光催化剂材料。

根据上述构成，可得到能简便地制作且难以剥离的带光催化剂的基材。

附图说明

图1是表示第1实施方式的带光催化剂的基材的构成的截面图。

图2是表示第2实施方式的带光催化剂的基材的制造方法的流程图。

图3是表示第3实施方式的光催化装置的结构的一例的概略图。

图4是表示第3实施方式的光催化装置的结构的另一例的概略图。

图5是表示第3实施方式的光催化装置的结构的另一例的概略图。

符号说明

10、20…带光催化剂的基材，11、21、31、41、51…基材，12、23、32、42、52…基底层，13、25、33、43、53…光催化剂层，20…带光催化剂的基材，21…基材，22…基底层涂布液，24…光催化剂层涂布液，30、40、50…光催化装置，38、48、58…带光催化剂的基材，34、44、54…光照射机构，35、45、55…供给部，57…活性炭

具体实施形式

以下，参照附图对实施方式进行说明。

另外，在实施方式中对共同的结构标注相同的符号，并省略重复的说明。另外，各图是用于说明实施方式及促进其理解的示意图，其形状、尺寸、比等有与实际的装置不同的地方，但这些可以参考以下的说明和公知的技术适当地进行设计变更。

实施方式分为以下3个。

(第一实施方式)

图1是表示第1实施方式的带光催化剂的基材的构成的截面图。

如图所示，第1实施方式的带光催化剂的基材10具有基材11、设置于基材11上的基底层12、以及设置于基底层12上的光催化剂层13。