[发明专利]一种基于光控对称性破缺的表面等离激元自组装手性结构的制备方法

权利要求书

1.一种基于光控对称性破缺的表面等离激元自组装手性结构的制备方法，其特征在于：一种基于光控对称性破缺的表面等离激元自组装手性结构的制备方法，通过如下方法制备实现：

步骤一、金纳米棒肩并肩自组装结构的制备

将包裹着十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）的金纳米棒单分散原液分别与左/右手性半胱氨酸分子溶液混合，所述单分散金纳米棒液的浓度为60~70 pmol/L；

其中，加入左/右手性半胱氨酸分子溶液后，上述溶液中左/右手性半胱氨酸分子的浓度为0.1 μmol/L；

取上述溶液与柠檬酸盐溶液混合均匀，得到金纳米棒肩并肩自组装结构；

其中，加入柠檬酸盐后，上述溶液中柠檬酸盐的浓度为60~70 μmol/L；

其中，所述混合有左手性半胱氨酸分子的金纳米棒组装体溶液被定义为P_L-异构体；

其中，所述混合有右手性半胱氨酸分子的金纳米棒组装体溶液被定义为M_D-异构体；

步骤二、金纳米棒自组装体外消旋混合溶液的制备

取等量步骤一中的P_L-异构体、M_D-异构体混合均匀，测量上述混合溶液的PCD信号，保证该混合溶液各波长下的PCD信号均为零，将所述混合溶液定义为金纳米棒自组装结构外消旋混合溶液；

步骤三、在金纳米棒自组装体的外消旋混合溶液中得到圆偏振光控的对称性破缺效应

取步骤二中的外消旋混合溶液，用633 nm和900 nm左旋圆偏振光照射外消旋混合溶液，所述混合溶液的PCD信号值由零变为出现先正后负的PCD信号；使用633 nm和900 nm右旋圆偏振光照射外消旋混合溶液，所述混合溶液的PCD信号值由零变为出现先负后正的PCD信号；使用750 nm左旋圆偏振光照射外消旋混合溶液，所述混合溶液的PCD信号值由零变为出现先负后正的PCD信号；使用750 nm右旋圆偏振光照射外消旋混合溶液，所述混合溶液的PCD信号值由零变为出现先正后负的PCD信号。

2.根据权利要求1所述的一种基于光控对称性破缺的表面等离激元自组装手性结构的制备方法，其特征在于：所述金纳米棒单分散原液的浓度为60~70 pmol/L。

3.根据权利要求1所述的一种基于光控对称性破缺的表面等离激元自组装手性结构的制备方法，其特征在于：向所述金纳米棒单分散原液中加入左/右手性半胱氨酸分子溶液混合后所述金纳米棒单分散原液中的半胱氨酸分子浓度均为1 μmol/L。

4.根据权利要求1所述的一种基于光控对称性破缺的表面等离激元自组装手性结构的制备方法，其特征在于：所述633 nm和900 nm左旋圆偏振光照射金纳米棒自组装体的外消旋混合溶液，所述金纳米棒分散液中CTAB分子的浓度为0.5 mmol/L，溶液的Zeta电位为43~46 mV。

5.根据权利要求1所述的一种基于光控对称性破缺的表面等离激元自组装手性结构的制备方法，其特征在于：所述633 nm和900 nm右旋圆偏振光照射金纳米棒自组装体的外消旋混合溶液，所述金纳米棒分散液中CTAB分子的浓度为0.5 mmol/L，溶液的Zeta电位为43~46 mV。

6.根据权利要求1所述的一种基于光控对称性破缺的表面等离激元自组装手性结构的制备方法，其特征在于：所述750 nm右旋圆偏振光照射金纳米棒自组装体的外消旋混合溶液，所述金纳米棒分散液中CTAB分子的浓度为0.5~0.7 mmol/L，溶液的Zeta电位为46~48mV。

7.根据权利要求1所述的一种基于光控对称性破缺的表面等离激元自组装手性结构的制备方法，其特征在于：所述750 nm左旋圆偏振光照射金纳米棒自组装体的外消旋混合溶液，所述金纳米棒分散液中CTAB分子的浓度为0.5~0.7 mmol/L，溶液的Zeta电位为46~48mV。