[发明专利]负极极片和使用其的电化学装置和电子装置

权利要求书

1.一种负极极片，包括基材、活性物质层和在所述基材和所述活性物质层之间的碳涂层，其中所述碳涂层的X射线衍射图谱包括004衍射线图形和110衍射线图形，由所述004衍射线图形得到的单位晶胞长度的c轴长度C004与由所述110衍射线图形得到的单位晶胞长度的a轴长度C110的比值C004/C110为所述碳涂层的OI值，且所述OI值大于15，且其中所述活性物质层为硅活性物质层。

2.根据权利要求1所述的负极极片，其中所述基材具有大于400MPa的拉伸强度和小于2％的延伸率。

3.根据权利要求1所述的负极极片，其中所述碳涂层选自天然石墨、人造石墨、硬碳、软碳或其组合。

4.根据权利要求2所述的负极极片，其中所述基材选自铜、镍、铜合金、镍合金或其组合。

5.根据权利要求1所述的负极极片，其中所述硅活性物质层包含不小于0.1重量％的硅。

6.一种电化学装置，包括：

正极极片；和

根据权利要求1-5中任一权利要求所述的负极极片。

7.根据权利要求6所述的电化学装置，所述电化学装置为锂离子电池。

8.一种电子装置，其包括根据权利要求6或7所述的电化学装置。