[发明专利]一种平衡晶圆间热预算的方法有效

专利信息
申请号: 201811534300.2 申请日: 2018-12-14
公开(公告)号: CN109686682B 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 李春龙;霍宗亮;叶甜春 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王宝筠
地址: 100029 北京市朝阳*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 平衡 晶圆间热 预算 方法
【权利要求书】:

1.一种平衡晶圆间热预算的方法,应用于对晶圆进行第一次管炉工艺至第N次管炉工艺的过程,N为不小于2的整数,其特征在于,包括:

提供多批晶圆,所述多批晶圆定义为第一批晶圆至第M批晶圆,M为正整数;

控制所述多批晶圆依次执行所述第一次管炉工艺至所述第N次管炉工艺,其中,所述第一次管炉工艺至所述第N次管炉工艺划分为第一组和第二组,且所述第一组和所述第二组的管炉工艺数量差值不大于1,在执行第一组中任意一次管炉工艺的过程中,控制所述多批晶圆按照所述第一批晶圆至所述第M批晶圆的排列顺序依次进入相应反应炉,及控制所述多批晶圆按照所述第M批晶圆至所述第一批晶圆的排列顺序依次离开相应反应炉;以及,在执行第二组中任意一次管炉工艺的过程中,控制所述多批晶圆按照所述第M批晶圆至所述第一批晶圆的排列顺序依次进入相应反应炉,及控制所述多批晶圆按照所述第一批晶圆至所述第M批晶圆的排列顺序依次离开相应反应炉。

2.根据权利要求1所述的平衡晶圆间热预算的方法,其特征在于,所述第一次管炉工艺至所述第N次管炉工艺划分为第一组和第二组,包括:

按照奇偶顺序将所述第一次管炉工艺至所述第N次管炉工艺划分为第一组和第二组;

其中,所述第一组包括奇数次管炉工艺,且所述第二组包括偶数次管炉工艺;或者,

所述第一组包括偶数次管炉工艺,且所述第二组包括奇数次管炉工艺。

3.根据权利要求1所述的平衡晶圆间热预算的方法,其特征在于,所述第一次管炉工艺至所述第N次管炉工艺划分为第一组和第二组,包括:

按照前后顺序将所述第一次管炉工艺至所述第N次管炉工艺划分为第一组和第二组;

其中,所述第一组包括所述第一次管炉工艺至第i次管炉工艺,所述第二组包括第i+1次管炉工艺至所述第N次管炉工艺,N为偶数时i为N/2,及N为奇数时i为(N+1)/2或(N-1)/2;或者,

所述第二组包括所述第一次管炉工艺至第i次管炉工艺,所述第一组包括第i+1次管炉工艺至所述第N次管炉工艺。

4.根据权利要求1所述的平衡晶圆间热预算的方法,其特征在于,控制所述多批晶圆按照所述第一批晶圆至所述第M批晶圆的排列顺序依次进入相应反应炉的持续时间范围,与控制所述多批晶圆按照所述第M批晶圆至所述第一批晶圆的排列顺序依次进入相应反应炉的持续时间范围相同。

5.根据权利要求1所述的平衡晶圆间热预算的方法,其特征在于,控制所述多批晶圆按照所述第M批晶圆至所述第一批晶圆的排列顺序依次离开相应反应炉的持续时间范围,与控制所述多批晶圆按照所述第一批晶圆至所述第M批晶圆的排列顺序依次离开相应反应炉的持续时间范围相同。

6.根据权利要求1所述的平衡晶圆间热预算的方法,其特征在于,任意一反应炉为立式反应炉,且所述立式反应炉的进口和出口为同一开口。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811534300.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top