[发明专利]一种波导光有源增益的实现方法、波导及光器件

权利要求书

1.一种波导光有源增益的实现方法，所述波导位于光子芯片上或者晶圆上，其特征在于，所述实现方法包括：

在所述波导的指定区段上方制备窗口，使得所述指定区段暴露在所述光子芯片或者晶圆的表面上；

其中，当所述波导暴露在所述光子芯片或者晶圆表面上时，采用半导体制造工艺，在所述光子芯片或者晶圆表面上制备覆盖所述波导的阻挡层，去除所述指定区段上的阻挡层以形成所述窗口；

当所述波导埋设在包层材料中时，使用干法刻蚀去除所述指定区段上的包层材料以形成所述窗口，使用湿法刻蚀去除所述指定区段周围的包层材料，使得所述指定区段形成悬空结构；

对所述指定区段进行离子掺杂。

2.如权利要求1所述的波导光有源增益的实现方法，其特征在于：所述指定区段为直波导、环形波导、折叠波导或者迂回型波导。

3.如权利要求1所述的波导光有源增益的实现方法，其特征在于：通过溶胶凝胶法、注入法或者溅射法对所述指定区段进行离子掺杂。

4.如权利要求1所述的波导光有源增益的实现方法，其特征在于，所述实现方法还包括：在所述光子芯片或者晶圆表面上制备覆盖掺杂后的所述指定区段的保护层。

5.如权利要求1所述的波导光有源增益的实现方法，其特征在于，所述实现方法还包括：将泵浦源产生的泵浦光垂直耦合入掺杂后的所述指定区段。

6.如权利要求5所述的波导光有源增益的实现方法，其特征在于：通过耦合器或者倒装贴片所述泵浦源，将所述泵浦光垂直耦合入所述指定区段。

7.如权利要求5所述的波导光有源增益的实现方法，其特征在于：所述泵浦源为垂直腔面发射激光器、法布里波罗腔激光器或者分布反馈布拉格激光器。

8.一种波导，所述波导位于光子芯片上或者晶圆上，其特征在于：所述波导具有使用权利要求1至5任一项所述的波导光有源增益的实现方法制备的指定区段。

9.一种光器件，其特征在于：所述光器件包括光子芯片和泵浦源，其中，所述光子芯片具有使用如权利要求1至4任一项所述的波导光有源增益的实现方法制备的波导，所述泵浦源产生的泵浦光垂直耦合到所述波导的指定区段。