[发明专利]一种电容耦合等离子体刻蚀设备

权利要求书

1.一种电容耦合等离子体刻蚀设备，其特征在于，包括：

腔体，所述腔体包括侧壁以及底壁，所述底壁具有开口；

设置于腔体内的上电极以及与所述上电极相对设置的基座，所述基座包括一下电极，所述下电极固定于导电支撑杆且位于所述开口之上；

固定于所述导电支撑杆下端的可伸缩导电部，所述可伸缩导电部沿所述导电支撑杆的轴向伸缩；

固定连接于所述可伸缩导电部下端与射频匹配器输出端之间的电连接部，所述射频匹配器的回流端固定于腔体底部；所述电连接部包括沿所述可伸缩导电部的径向方向的横向部，且所述横向部为刚性连接部；

所述基座还包括固定于所述下电极外侧的绝缘环，以及固定于所述绝缘环外侧的内导电环；

所述腔体内侧具有射频返回路径，所述内导电环与所述射频返回路径之间具有间隙，所述内导电环通过可伸缩密封部与所述腔体底壁固定，使得所述下电极的上表面密闭设置于所述腔体所在的容置空间内，所述可伸缩密封部沿所述导电支撑杆的轴向伸缩；

固定连接于所述内导电环与所述腔体之间的导电条，所述导电条的长度适应于所述可伸缩密封部的伸缩量；

所述导电支撑杆、所述可伸缩导电部以及所述电连接部外还设置有射频屏蔽罩。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，还包括接地环，所述接地环位于所述腔体底壁上，所述接地环与所述侧壁之间为空腔，所述接地环为所述射频返回路径的一部分。

3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，还包括位于所述空腔之上的等离子约束环，所述等离子约束环与所述空腔构成排气腔，所述等离子约束环包括导电部件，所述导电部件使得射频电流从所述腔体侧壁经过等离子约束环后进入所述接地环。

4.根据权利要求2或3所述的设备，所述导电条固定于所述腔体底壁上，来自于所述接地环的射频电流经过所述导电条后，依次流经所述内导电环的外侧和内侧后，从所述腔体底壁返回所述回流端。

5.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述可伸缩导电部为导电波纹管，所述导电波纹管的与所述导电支撑杆的轴心重叠。

6.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述可伸缩密封部为密封波纹管。

7.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述下电极上设置有静电夹盘，所述绝缘环环绕所述下电极的侧壁，在所述绝缘环上还设置有环绕所述静电夹盘的聚焦环。

8.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述射频匹配器的数量为一个或多个，多个射频匹配器具有不同的频率及功率。

9.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，随着所述可伸缩导电部的移动，所述横向部不发生位移。