[发明专利]一种盖板

说明书

本申请公开了一种盖板。该盖板包括透明本体和蓝色薄膜层，其中蓝色薄膜层进一步包括第一基础层及第一透明加硬层，其中，第一基础层及第一透明加硬层依次叠层设置在透明本体一表面上，第一基础层及第一透明加硬层配合以使得盖板呈现陶瓷蓝色。本申请盖板能够对外呈现陶瓷蓝色色彩，且具有较高的硬度和耐磨损性能。

技术领域

本申请涉及盖板镀膜技术领域，特别是涉及一种盖板。

背景技术

近年来，随着生活水平的提高，电子产品更新换代节奏越来越快，如智能电子产品类，除了追求时尚的外观外，在功能性方面通常也有很高的要求，如硬度、耐磨损性能等。

本申请的发明人在长期的研发过程中发现，手机盖板可以采用下述两种方式进行硬化处理：

1)采用化学硬化方法和物理硬化的方法对玻璃基体本身进行硬化。但经化学硬化后的玻璃在和其他原配件贴合加工过程中，兼容性较差；经物理加硬后的玻璃存在反光学强、玻璃脆性较大，容易破碎等问题。

2)通过在玻璃表面镀加硬层来提高整个手机盖板的表面硬度和耐磨损性能，但当玻璃表面硬度达到要求时，其光学性能往往偏离预设要求。

发明内容

本申请提供一种盖板，其能够呈现陶瓷蓝色色彩，且具有较高的硬度和耐磨损性能。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种盖板，该盖板包括透明本体和蓝色薄膜层，其中蓝色薄膜层进一步包括第一基础层及第一透明加硬层，其中，第一基础层及第一透明加硬层依次叠层设置在透明本体一表面上，第一基础层及第一透明加硬层配合以使得盖板呈现陶瓷蓝色。

其中，第一基础层包括氧化硅膜层、氧化铝膜层或氧化硅铝膜层的任一种或组合；第一透明加硬层包括氮化物膜层、氮碳化物膜层、氮碳氧化物膜层或类金刚石膜层的任一种或组合。

其中，蓝色薄膜层进一步包括过渡层，过渡层设置在透明本体与第一基础层之间。

其中，过渡层包括氧化铌膜层，第一基础层包括氧化硅膜层，第一透明加硬层包括氮化硅膜层。

其中，第一基础层的厚度范围为20nm-100nm；第一透明加硬层的厚度范围为50nm-200nm。

其中，第一基础层的厚度范围为40nm-70nm；第一透明加硬层的厚度范围为50nm-80nm。

其中，过渡层的厚度范围为15nm-150nm。

其中，蓝色薄膜层进一步包括第二基础层及第二透明加硬层，其中，第二基础层及第二透明加硬层依次叠层设置在第一透明加硬层背离第一基础层的一表面上，第二基础层位于第一透明加硬层与第二透明加硬层之间。

其中，过渡层、第一基础层和一透明加硬层的厚度设置成使的盖板表面的莫氏硬度大于7.0。

其中，蓝色薄膜层的厚度设置成使得膜层在可见光380-780nm范围内的平均透过率大于或等于85％，且使得在自然环境下经盖板的透射光在CIE LAB色空间中的坐标值为：45≦L≦60，-5≦a≦5，-40≦b≦-20。

本申请的有益效果是：区别于现有技术，本申请实施例盖板包括透明本体和蓝色薄膜层，其中蓝色薄膜层进一步包括第一基础层及第一透明加硬层，其中，第一基础层及第一透明加硬层依次叠层设置在透明本体一表面上，第一基础层及第一透明加硬层配合以使得盖板呈现陶瓷蓝色。本申请实施例通过在透明本体上设置蓝色薄膜层，能够使盖板呈现陶瓷蓝色色彩，且蓝色薄膜层中设置有第一透明加硬层，能够提高盖板硬度和耐磨损性能。

附图说明

图1是本申请盖板第一实施例的结构示意图；

图2是图1实施例盖板的制造方法一实施例的流程示意图；