[发明专利]一种用于控制器的保护装置

说明书

本发明公开了一种用于控制器的保护装置，涉及控制器保护技术领域。本发明包括控制器本体、气体传输管和壳体，壳体内壁依次固定有保温层和反射层，外壳内壁固定有贯穿保温层和反射层的温度传感器，外壳内部固定有与外壳内部控制器本体相配合的加热机构，外壳一表面固定有处理器，气体传输管上设置有流量计。本发明通过加热机构对气体控制器本体中的控制器进行加热，可以防止控制体的温度下降，有效避免了液化气体经过气体控制器时易出现的气体冷凝的现象，保证了气体控制器的使用精度和寿命，减少了因控制器出现问题造成的经济损失。

技术领域

本发明属于控制器保护技术领域，特别是涉及一种用于控制器的保护装置。

背景技术

半导体制造过程中，需要将各种高纯度气体，如氮气、氢化物气体、卤化物气体等，提供给完成各种半导体工艺的加工设备，如沉积设备、刻蚀设备、离子注入设备、扩散设备等。这些高纯度气体存储在气罐中，出于毒性和安全方面的考虑，需要对其进行很谨慎的保存和处理，为此，通常会在工艺间外设置专门的气柜，利用专门的气体传输系统对各种高纯度气体进行集中控制和配送。

现有的气体传输系统中，每一种气体均存储于一个气罐中，该气罐内存储的气体通过一气体传输管路到达气体控制器(通常为气体压力调节器或气体开关阀)，通过对该气体控制器的控制实现对气体流量大小或导通/截止状态的控制。然后，再通过另一气体传输管路将气体传送至需要使用该气体的加工设备处。其中，气罐、气体传输管路和气体控制器通常均位于气柜中，通过另一气体传输管路与加工设备相连。

在半导体制造过程中用到的各种高纯度气体中，有多种是以液化状态存储于气罐中，如氨气、氯气等。这些液化状态下存储的气体在使用时，会由于焦耳-汤普森效应而发生冷凝，出现一些冷凝的液体。而气体一旦经过冷凝，其内的小颗粒会凝结为大颗粒，对生产很不利。另外，对于具有腐蚀性的气体，其冷凝的液体会对整个气路传送路线上的各部件产生腐蚀作用，不仅对气体传输系统有害，而且还会因腐蚀产物会被传送至加工设备而对生产造成较大影响。

现有的方法只能在一定程度上减少气体液化的量，在实际应用中仍会存在一些问题，实际应用中，气体在离开气罐后所通过气体控制器(其通常为气体压力调节器或气体开关阀)，该气体控制器在气体传输系统中是重要的组成部件。现有的方法都难以实现对其的良好加热，气体在流至该部件时，会由于温度的下降而出现冷凝，从而使该部件中存在微量的冷凝液体，当气体控制器内存在冷凝的液体时，其会导致控制体内的PTFE控制膜片出现形变，使气体控制器的流量调整精度下降，另外，当形变较为严重时，如，在液体内浸泡时间过长，或当流经的气体为氯气等腐蚀性气体时，甚至会因PTFE控制膜片膨胀导致气体控制器永久关闭。这些均明显缩短了气体控制器的使用寿命，而这些液体的存在易导致气体控制器的老化失灵，随之而来的气体控制器的更换及检漏工作将令该种气体的传输和使用中断，使生产在较长时间内处于停工状态。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用于控制器的保护装置，通过改善因气体出现冷凝而导致的气体控制器易损坏的现象，解决了现有的气体控制器中因难以进行良好加热而使该部件中存在微量的冷凝液体，使气体控制器的流量调整精度下降或损坏，降低气体控制器使用寿命，生产在较长时间内停工的问题。

为解决上述技术问题，本发明是通过以下技术方案实现的：

本发明为一种用于控制器的保护装置，包括控制器本体、气体传输管和壳体，所述控制器本体贯穿至壳体内部且与壳体固定连接，所述气体传输管贯穿壳体且与壳体内部的控制器本体连通。

其中，所述壳体内壁依次固定有保温层和反射层，所述保温层主要由橡塑保温材料制成，反射层由真空镀铝膜等材料带有彩色印格的聚酯膜和玻璃纤维复合加工而成，所述外壳内壁固定有贯穿保温层和反射层的温度传感器，所述外壳内部固定有与外壳内部所述控制器本体相配合的加热机构，所述外壳一表面固定有处理器，所述气体传输管上设置有流量计。