[发明专利]一种皮秒-纳秒激光复合异步抛光陶瓷的工艺方法

权利要求书

1.一种皮秒-纳秒激光复合异步抛光陶瓷的工艺方法，其特征在于：

(1)首先利用皮秒激光沿扫描路径对需要处理的陶瓷表面进行扫描辐照；经皮秒激光的辐照，陶瓷表面微观凸起部分被去除实现初步平坦化，同时产生具有高表面活性的微纳米颗粒分布在辐照后表面；其中皮秒激光的辐照能量密度高于皮秒激光对陶瓷基材去除阈值的50％～300％；设置皮秒激光的平均功率为30～70W，重复频率10000KHz～100000KHz；

(2)在时间间隔t后启动纳秒激光，t为50μs～500μs；纳秒激光沿皮秒激光扫描路径以相同的扫描速度对皮秒激光作用产生的微纳米颗粒进行跟踪辐照，辐照后微纳米颗粒熔融并产生一层致密光滑的细晶熔凝层覆在陶瓷表面，最终完成抛光；其中纳秒激光能量密度介于纳秒激光对陶瓷微纳米颗粒熔化阈值和汽化阈值之间同时保证低于陶瓷基材熔化阈值；设置纳秒激光平均功率为3W～15W，重复频率50KHz～100KHz。

2.根据权利要求1所述皮秒-纳秒激光复合异步抛光陶瓷的工艺方法，其特征在于，皮秒激光采用零离焦扫描辐照，纳秒激光采用正离焦跟踪辐照，离焦量为0.01mm～1mm。

3.根据权利要求1所述皮秒-纳秒激光复合异步抛光陶瓷的工艺方法，其特征在于，利用控制器设置皮秒激光和纳秒激光启动的时间间隔t。

4.根据权利要求1所述皮秒-纳秒激光复合异步抛光陶瓷的工艺方法，其特征在于，利用计算机对皮秒激光扫描路径规划，设置皮秒激光扫描速度为300mm/s～1000mm/s，扫描路径间隙为0.01mm～0.5mm。