[发明专利]一种用于陶瓷膜的新型清洗装置有效
| 申请号： | 201811546990.3 | 申请日： | 2018-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN109529632B | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 王志强;李胜明;梁远争;张庆;陈传云;李爱珍 | 申请（专利权）人： | 合肥信达膜科技有限公司 |
| 主分类号： | B01D65/02 | 分类号： | B01D65/02 |
| 代理公司： | 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 | 代理人： | 张明利 |
| 地址： | 230001 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 陶瓷膜 新型 清洗 装置 | ||
1.一种用于陶瓷膜的新型清洗装置，包括清洗池(1)，其特征在于，所述清洗池(1)外侧固定有呈圆周阵列分布的弧形状的第一固定台(11)；
所述相互对称的第一固定台(11)上端设有支撑柱(2)，支撑柱(2)上端固定有第二固定台(21)；
所述第二固定台(21)上端设有圆形凹槽(211)，圆形凹槽(211)内开有第一圆孔(2111)；
所述圆形凹槽(211)内安装有伸缩气缸(3)，伸缩气缸(3)外侧与圆形凹槽(211)内壁滑动连接，伸缩气缸(3)上的活动杆(31)贯穿于第一圆孔(2111)；
所述活动杆(31)一端连接固定有连接板(4)，连接板(4)底端固定有对称分布的连接杆(41)；
所述清洗池(1)内底端设有轴承(13)，轴承(13)内旋转固定有转轴(5)，转轴(5)底端与安装在清洗池(1)底端的电机的输出端连接；
所述转轴(5)上端设有圆台(51)，圆台(51)外侧设有呈圆周阵列分布的第一支撑台(6)；
所述第一支撑台(6)上端设有呈线性阵列分布的伸缩弹簧(61)，伸缩弹簧(61)上端固定有呈十字形的第二支撑台(7)，所述连接杆(41)一端与第二支撑台(7)上端连接；
所述第二支撑台(7)上端安装有若干个呈半圆形的固定槽(8)。
2.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷膜的新型清洗装置，其特征在于，所述清洗池(1)外侧底端处设有出料口(12)，出料口(12)上设有密封盖(121)。
3.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷膜的新型清洗装置，其特征在于，所述第一固定台(11)上端固定有L形水管(111)，L形水管(111)一端设有高压喷头(1111)。
4.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷膜的新型清洗装置，其特征在于，所述固定槽(8)两端开有第二圆孔(81)。
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