[发明专利]基板及制备方法、封孔系统、包壳管

权利要求书

1.一种制备基板的方法，其特征在于，包括：

提供基材，所述基材具有孔隙；

利用毛细输液头在所述基材上形成封孔层，所述封孔层填充并封闭所述孔隙，其中，在所述基材上形成所述封孔层是通过以下步骤实现的：

提供Na₂SiO₃溶液以及Al₂O₃溶液；

利用所述毛细输液头将所述Na₂SiO₃溶液涂覆到所述基材具有所述孔隙的一侧，形成Na₂SiO₃液体膜层；

对所述Na₂SiO₃液体膜层进行自然风干，并进行第一保温处理，形成Na₂SiO₃固态膜层；

利用所述毛细输液头将所述Al₂O₃溶液涂覆到所述Na₂SiO₃固态膜层远离所述基材的一侧，形成Al₂O₃液体膜层；

对所述Al₂O₃液体膜层进行自然风干，并进行第二保温处理，以获得所述封孔层。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基材包括衬底以及设置在所述衬底上的膜层，所述膜层具有孔隙。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述孔隙的尺寸为微米级。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述Na₂SiO₃溶液中Na₂SiO₃的质量百分比为15-20％，在所述Al₂O₃溶液中Al₂O₃的质量百分比为15-20％。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述毛细输液头的扫描速度为10-60mm/s。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述毛细输液头的扫描搭接率为30％-50％。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，向所述毛细输液头中注入所述Na₂SiO₃溶液的速度为0.01-0.022ml/min。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，向所述毛细输液头中注入所述Al₂O₃溶液的速度为0.01-0.022ml/min。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一保温处理的温度为250-400℃，时间为8-12min。

10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二保温处理的温度为450-580℃，时间为8-12min。

11.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述Na₂SiO₃固态膜层的厚度小于0.5μm。

12.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述封孔层的厚度小于1μm。

13.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在所述基材上形成所述封孔层之前，进一步包括：

对所述衬底进行清洁处理并干燥，所述清洁处理包括砂磨、抛光以及超声波清洗；

在所述衬底上形成所述膜层，形成所述膜层的方法包括物理气相沉积、化学气相沉积、喷涂、电镀、阳极氧化、微弧氧化。