[发明专利]有源光缆用带闪耀光栅的硅基光纤固定槽及其制作方法

权利要求书

1.有源光缆用带闪耀光栅的硅基光纤固定槽，包括硅基V型槽，所述的硅基V型槽(1)一端开口，另一端有端斜面(111)，其特征在于，所述的硅基V型槽的端斜面(111)内侧上刻蚀反射式闪耀光栅(2)，所述的反射式闪耀光栅(2)的闪耀角为9.7°，所述的反射式闪耀光栅(2)与端斜面(111)组成微反射镜(3)，所述的微反射镜(3)的镜面竖直向上。

2.根据权利要求1所述有源光缆用带闪耀光栅的硅基光纤固定槽，其特征在于，所述的硅基V型槽的端斜面(111)与底面(100)呈54.7°角。

3.根据权利要求1所述有源光缆用带有闪耀光栅的硅基光纤固定槽，其特征在于，所述的反射式闪耀光栅(2)截面为三角形状。

4.如上任一权利要求所述有源光缆用带有闪耀光栅的硅基光纤固定槽的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

一、湿法腐蚀制作硅基V型槽，制作的硅基V型槽具有底面(100)，且一端开口，另一端有端斜面(111)；

二、干法刻蚀在硅基V型槽上刻蚀闪耀光栅，对硅基V型槽的端斜面(111)进行曝光和显影，以产生条形反射式闪耀光栅(2)图形；然后使离子束垂直于端斜面(111)将条形刻蚀图形转移至硅片，最后倾斜刻蚀反射式闪耀光栅(2)，倾斜角度是离子束与端斜面(111)呈80°。

5.根据权利要求4所述有源光缆用带有闪耀光栅的硅基光纤固定槽的制作方法，其特征在于，所述的湿法腐蚀制作硅基V型槽的过程如下：

首先选取硅片，对选取的硅片进行丙酮、乙醇-超声波清洁，去离子水冲洗、氮气吹干；然后将上述处理的硅片移入热氧化炉中进行湿氧氧化，氧化完成后取出硅片移入热退火炉中进行热退火；再进行光刻、显影处理；第四是将光刻、显影完成的硅片使用氮气吹干，后浸入HF水溶液中，制备SiO₂掩膜；最后将经过以上处理过的硅片浸入KOH水溶液，进行湿法硅刻蚀，制备具有底面(100)与端斜面(111)形成54.7°角的硅基V型槽(1)。

6.根据权利要求5所述有源光缆用带有闪耀光栅的硅基光纤固定槽的制作方法，其特征在于，所述的KOH水溶液成分为：KOH40～50wt％、EDP、TMAH22wt％。

7.根据权利要求6所述有源光缆用带有闪耀光栅的硅基光纤固定槽的制作方法，其特征在于，所述的EDP的组成成分为750ml乙二胺、120g邻苯二酚和100ml水。